ST0421 Strontiumoxid (SrO) Sputtering Target

Strontiumoxid (SrO) Sputtering Target Beschreibung

Das Strontiumoxid (SrO) Sputtertarget ist ein hochwertiges Material, das für Präzisionsanwendungen in modernen industriellen Prozessen entwickelt wurde. Es wird mit Hilfe fortschrittlicher Fertigungstechniken hergestellt und garantiert eine hervorragende Reinheit (≥99%) und eine einheitliche Zusammensetzung, die sowohl in Form von Standardscheiben als auch in kundenspezifischen Ausführungen erhältlich ist. Mit einem außergewöhnlichen Schmelzpunkt von 2531℃ und einer Dichte von 4,7 g/cm³ ist dieses Target auf optimale thermische Stabilität und zuverlässige Leistung in anspruchsvollen Sputtering-Umgebungen ausgelegt. Die Einbindung von Indium und Elastomerbindungen verbessert die Haltbarkeit und Abscheidungseffizienz weiter und macht es zu einer unverzichtbaren Komponente bei der Herstellung von elektronischen Geräten und Dünnschichtanwendungen.

Strontiumoxid (SrO) Sputtering Target Anwendungen

- Sputtering-Abscheidung: Ideal für die Herstellung von Hochleistungs-Dünnschichten in elektronischen Geräten.
- Dünnfilmbeschichtungen: Perfekt für optische Beschichtungen, Halbleiterherstellung und Schutzschichten.
- Mikroelektronik: Entscheidend für Abscheidungsprozesse in Miniaturschaltkreisen.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Studien, die hohe Temperaturstabilität und chemische Präzision erfordern.

Strontiumoxid (SrO) Sputtering Target Packing

Unsere Strontiumoxid (SrO) Sputtering Targets werden nach strengen Qualitätskontrollprotokollen verpackt, um sicherzustellen, dass sie in einwandfreiem Zustand ankommen. Die Standardverpackung umfasst schützende, antistatische Materialien und Polsterungen, wobei je nach Kundenanforderung auch vakuumversiegelte oder kundenspezifische Verpackungen möglich sind.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptmerkmale des Strontiumoxid (SrO) Sputtering Targets?
A: Es zeichnet sich durch hohe Reinheit (≥99%), hervorragende thermische Stabilität und ein anpassbares Design aus, das als Scheiben oder maßgeschneiderte Formen erhältlich ist und eine optimale Leistung bei Sputtering-Anwendungen gewährleistet.

F: Welche Bindungsmethoden werden in dem Target verwendet?
A: Das Target verwendet Indium- und Elastomerbindungen, um eine robuste mechanische und thermische Integrität während des Sputterprozesses zu gewährleisten.

F: Kann das Strontiumoxid (SrO)-Sputtertarget für spezifische Anwendungen angepasst werden?
A: Ja, die Targets sind in Form von Standardscheiben erhältlich oder können kundenspezifisch angefertigt werden, um spezielle Designanforderungen zu erfüllen.

F: In welchen Branchen wird diese Art von Sputtertargets üblicherweise verwendet?
A: Sie werden häufig in der Elektronik, Optik, Mikroelektronik und in Forschungslabors eingesetzt, wo Hochtemperatur- und hochreine Materialien erforderlich sind.

F: Wie wird die Qualität und Reinheit des SrO-Targets sichergestellt?
A: Strenge Herstellungsprotokolle und Qualitätskontrollmaßnahmen gewährleisten einen Reinheitsgrad von ≥99 % sowie gleichbleibende Materialeigenschaften für eine optimale Sputterleistung.