ST0419 Iridiumoxid (IrO2) Sputtering Target

Iridiumoxid (IrO2) Sputtering Target Beschreibung

Das Iridiumoxid (IrO₂) Sputtering Target wurde entwickelt, um eine hervorragende Leistung bei Sputtering-Anwendungen zu erzielen. Hergestellt mit einer Reinheit von ≥99% und in präziser Scheiben- oder kundenspezifischer Form gefertigt, gewährleistet dieses Target eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit und Abscheidungsqualität. Sein hoher Schmelzpunkt von 1100℃ und eine Dichte von 11,7 g/cm³ machen es zur idealen Wahl für Hochtemperaturumgebungen und anspruchsvolle industrielle Prozesse. Es genießt das Vertrauen führender Industrieunternehmen und unterstützt die Herstellung hochwertiger elektronischer Komponenten, Sensorgeräte und Oberflächenbeschichtungen.

Iridiumoxid (IrO2) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Abscheidung gleichmäßiger und hochwertiger Schichten bei der Herstellung von Halbleitern und Mikroelektronik.
- Oberflächenbeschichtungen: Ideal für die Verbesserung der Korrosionsbeständigkeit und der Verschleißeigenschaften von Industrieanlagen.
- Sensor-Fertigung: Für die Herstellung präziser Sensorelemente für medizinische, umwelttechnische und industrielle Anwendungen.
- Fortgeschrittene Forschung: Geeignet für Versuchsaufbauten, die zuverlässige und leistungsstarke Sputtertargets erfordern.

Iridiumoxid (IrO2) Sputtertarget-Packung

Unsere Iridiumoxid-Sputtertargets sind sicher verpackt, um eine optimale Qualität bei Transport und Lagerung zu gewährleisten.
- Standard-Verpackung: Vakuumversiegelte Scheiben oder maßgeschneiderte Einheiten, die eine kontaminationsfreie Lieferung gewährleisten.
- Kundenspezifische Optionen: Maßgeschneiderte Verpackungen für spezifische Projektanforderungen auf Anfrage.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Iridiumoxid (IrO2) Sputtering Targets?
A: Es wird hauptsächlich für die Abscheidung von Dünnschichten, Oberflächenbeschichtungen, die Herstellung von Sensoren und fortgeschrittene Forschungsanwendungen in der High-Tech-Industrie verwendet.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad von ≥99% auf die Leistung des Sputtertargets aus?
A: Der hohe Reinheitsgrad minimiert Verunreinigungen während der Abscheidung und gewährleistet eine hervorragende Schichthaftung, Gleichmäßigkeit und Gesamtleistung.

F: Kann das Iridiumoxid (IrO2) Sputtering Target kundenspezifisch angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann nach Maß angefertigt werden, um spezifische Anforderungen an Größe und Form zu erfüllen.

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung dieses Sputtertargets?
A: Branchen wie Elektronik, Sensoren, Luft- und Raumfahrt und Forschungseinrichtungen profitieren von der hohen Leistung und Zuverlässigkeit dieses Targets.

F: Wie wird das Target verpackt, um seine Qualität während des Versands zu bewahren?
A: Die Targets werden vakuumversiegelt und sicher verpackt, um Verunreinigungen und Beschädigungen zu vermeiden, damit sie in optimalem Zustand ankommen.