Eingestellt (Eingestellt) ST0418 Germaniumdioxid (GeO2) Sputtering Target

Germaniumdioxid (GeO2) Sputtering Target Beschreibung

Das Germaniumdioxid (GeO2) Sputtertarget wird mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt und ist in Scheibenform oder in kundenspezifischen Formen erhältlich, um spezifische industrielle Anforderungen zu erfüllen. Mit einem Schmelzpunkt von 1115℃ und einer Dichte von 6,239 g/cm³ ist dieses Target für Hochleistungs-Sputterprozesse ausgelegt. Dieses von Stanford Advanced Materials entwickelte Produkt wurde sorgfältig entwickelt, um gleichbleibende Qualität und optimale Leistung in kritischen Anwendungen zu gewährleisten.

Germaniumdioxid (GeO2) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Beschichtungen in der Halbleiterfertigung und bei optischen Anwendungen.
- Sputtering-Verfahren: Geeignet für den Einsatz beim Magnetron-Sputtern und ähnlichen Verfahren in der modernen Fertigung.
- Beschichtungstechnologien: Einsatz bei der Herstellung von Hochleistungsbeschichtungen für verschiedene industrielle Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Wird in Labors zur Entwicklung von Materialien und elektronischen Geräten der nächsten Generation eingesetzt.

Germaniumdioxid (GeO2) Sputtering Target Packing

Unser Germaniumdioxid (GeO2) Sputtering Target wird sicher verpackt, um seine Integrität und Leistung während der Lagerung und des Transports zu erhalten. Die Produkte werden häufig vakuumversiegelt oder unter Schutzatmosphäre verpackt, wobei kundenspezifische Verpackungsoptionen zur Verfügung stehen, um kundenspezifische Anforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: In welchen Branchen wird das Germaniumdioxid (GeO2) Sputtering Target üblicherweise verwendet?
A: Es wird häufig in der Halbleiterherstellung, in der Optik und bei fortschrittlichen Beschichtungsanwendungen in Branchen eingesetzt, die eine hohe Präzision erfordern.

F: Wie wird die Reinheit des Sputtertargets sichergestellt?
A: Das Target wird unter strengen Qualitätskontrollprotokollen hergestellt, um einen Reinheitsgrad von ≥99% zu erreichen und zu erhalten.

F: Kann das Target in Bezug auf Form und Größe angepasst werden?
A: Ja, abgesehen von den Standard-Scheibenformen ist das Produkt auch in kundenspezifischen Formen erhältlich, um spezifischen industriellen Anforderungen gerecht zu werden.

F: Welche Vorteile bietet die Verwendung eines Materials mit hohem Schmelzpunkt wie GeO₂?
A: Ein hoher Schmelzpunkt gewährleistet Stabilität und Leistung bei Hochtemperatur-Sputterprozessen und macht das Material ideal für anspruchsvolle Anwendungen.

F: Wie wird das Produkt verpackt, um Verunreinigungen zu vermeiden?
A: Das Target wird sorgfältig und unter kontrollierten Bedingungen verpackt, wobei häufig eine vakuumversiegelte Verpackung oder eine Verpackung unter Schutzatmosphäre verwendet wird, um seine Qualität zu erhalten.