ST0415 Kadmiumoxid (CdO) Sputtering Target

Cadmiumoxid (CdO) Sputtering Target Beschreibung

Das Cadmiumoxid (CdO) Sputtering Target ist ein hochwertiges Material, das für die Präzisions-Dünnschichtabscheidung in verschiedenen anspruchsvollen industriellen Anwendungen entwickelt wurde. Entwickelt mit fortschrittlichen Fertigungstechniken, bietet dieses Target außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit. Seine hohe Reinheit (≥99%) und seine optimierten physikalischen Eigenschaften, einschließlich eines Schmelzpunkts von 1550℃ und einer Dichte von 8,15 g/cm³, gewährleisten Hochleistungsergebnisse in Geräten wie Halbleitern, optischen Sensoren und speziellen elektronischen Komponenten.

Cadmiumoxid (CdO) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Dünnschichten in Halbleiter- und mikroelektronischen Geräten.
- Optische Beschichtungen: Anwendung bei der Herstellung hochwertiger optischer Schichten für Linsen, Solarzellen und Anzeigetafeln.
- Sensortechnologien: Wird in Gassensoren und anderen Geräten eingesetzt, die präzise Dünnschichteigenschaften erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten in der modernen Materialforschung und Innovation.

Cadmiumoxid (CdO) Sputtering Target Packing

Unsere Cadmiumoxid (CdO)-Sputter-Targets werden sorgfältig verpackt, um die Unversehrtheit des Produkts während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. In der Regel werden sie vakuumversiegelt und nach Kundenwunsch verpackt, um zu garantieren, dass das Target in einwandfreiem Zustand ankommt.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein Material, das im Sputterbeschichtungsprozess verwendet wird, um dünne Schichten auf verschiedenen Substraten für elektronische, optische und sensorische Anwendungen zu erzeugen.

F: Für welche Anwendungen sind CdO-Sputtertargets am besten geeignet?
A: CdO-Sputtertargets sind aufgrund ihrer hohen Reinheit und überlegenen Abscheidungsleistung ideal für Halbleiterbauelemente, optische Beschichtungen und Sensortechnologien.

F: Wie wirken sich die physikalischen Eigenschaften von CdO auf die Dünnschichtabscheidung aus?
A: Der hohe Schmelzpunkt, die hohe Dichte und die hohe Reinheit von CdO gewährleisten eine stabile und gleichmäßige Dünnschichtbildung, was für eine gleichbleibende Leistung bei Hightech-Anwendungen entscheidend ist.

F: Gibt es für dieses Produkt auch kundenspezifische Formen?
A: Ja, unser Cadmiumoxid (CdO) Sputtering Target ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann kundenspezifisch hergestellt werden, um spezifische Produktionsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie wird die Produktqualität während des Versands sichergestellt?
A: Die Targets sind vakuumversiegelt und sicher verpackt, um sie vor Verunreinigungen und physischen Schäden zu schützen und eine optimale Leistung bei der Installation zu gewährleisten.