ST0336 Calciumzirkonat (CaZrO3) Sputtertarget

Calciumzirkonat (CaZrO3) Sputtering Target Beschreibung

Das Calciumzirkonat (CaZrO3) Sputtering Target wurde für eine hochzuverlässige Leistung bei der Dünnschichtabscheidung entwickelt. Mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt, bietet dieses Target Konsistenz und Haltbarkeit, die für die Halbleiterherstellung und industrielle Beschichtungen unerlässlich sind. Sein hoher Schmelzpunkt von 2345℃ und seine robuste Dichte von 5 g/cm³ gewährleisten einen stabilen Betrieb auch in schwierigen Hochtemperaturumgebungen.

Calciumzirkonat (CaZrO3) Sputtertarget-Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung hochwertiger Schichten bei der Herstellung von Halbleitern und elektronischen Geräten.
- Oberflächenbeschichtungen: Dauerhafte Beschichtungen für verbesserte Leistung in industriellen Anwendungen.
- Fortschrittliche Elektronik: Wird bei der Herstellung von mikroelektronischen Geräten und in der Forschung eingesetzt.
- Industrielle Werkzeuge: Verbessert die Verschleißfestigkeit und Langlebigkeit von beschichteten Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für experimentelle und innovative Beschichtungsprozesse.

Kalziumzirkonat (CaZrO3) Sputtering Target Packing

Unsere Calciumzirkonat-Sputtertargets werden sorgfältig verpackt, um maximalen Schutz bei Transport und Lagerung zu gewährleisten. Sie werden in der Regel in feuchtigkeitsbeständigen, statikfreien Materialien verpackt, wobei die Verpackungsoptionen an die jeweiligen Anwendungsanforderungen angepasst werden können.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist die Hauptanwendung von Calciumzirkonat-Sputtertargets?
A: Sie werden hauptsächlich für die Abscheidung von Dünnschichten in der Halbleiterfertigung und für Oberflächenbeschichtungsverfahren verwendet.

F: Wie wirkt sich der hohe Schmelzpunkt auf die Leistung des Sputtertargets aus?
A: Der hohe Schmelzpunkt von 2345℃ gewährleistet Stabilität und zuverlässige Leistung bei Hochtemperatur-Beschichtungsprozessen und verringert das Risiko einer thermischen Schädigung.

F: In welchen Branchen werden Sputtertargets aus Calciumzirkonat üblicherweise eingesetzt?
A: Diese Targets werden häufig in der Halbleiterherstellung, der Produktion von elektronischen Geräten, industriellen Beschichtungen und in der Forschung eingesetzt.

F: Können die Formen und Größen der Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, die Kalziumzirkonat-Sputtertargets sind in Scheiben oder in kundenspezifischen Konfigurationen erhältlich, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie wirkt sich ein Reinheitsgrad von ≥99% auf die Wirksamkeit des Sputtertargets aus?
A: Ein hoher Reinheitsgrad minimiert die Verunreinigung und gewährleistet die Abscheidung gleichmäßiger und hochwertiger dünner Schichten, was für fortschrittliche Elektronik- und Beschichtungsanwendungen entscheidend ist.