ST0335 Zink-Tellurid (ZnTe) Sputtering Target

Zinc Telluride (ZnTe) Sputtering Target Beschreibung

Das Zinc Telluride (ZnTe) Sputtering Target wurde für Hochleistungsanwendungen in Halbleiter- und Dünnschichtabscheidungsprozessen entwickelt. Dieses Target wird unter strenger Qualitätskontrolle mit fortschrittlichen Fertigungstechniken hergestellt und bietet eine außergewöhnliche Reinheit (≥99%) für gleichbleibende Abscheidungsraten und hervorragende Schichtgleichmäßigkeit. Die anpassbare Scheibenform und die robusten physikalischen Eigenschaften machen es zur idealen Wahl für die Optoelektronik, die Sensorik und andere High-Tech-Industrien, die eine präzise Materialabscheidung erfordern.

Zinc Telluride (ZnTe) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Perfekt für die Herstellung hochwertiger Halbleiterschichten.
- Optoelektronische Geräte: Unverzichtbar für die Herstellung von LEDs, Laserdioden und Fotodetektoren.
- Herstellung von Sensoren: Verbessert die Leistung von Geräten, die Umweltveränderungen erkennen.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten in der modernen Materialforschung.
- Kundenspezifische industrielle Anwendungen: Anpassungsfähig für spezifische Anforderungen an Sputtering-Systeme.

Zink-Tellurid (ZnTe) Sputtertarget-Verpackung

Jedes Zinc Telluride (ZnTe) Sputtering Target wird sicher verpackt, um seine Unversehrtheit während Lagerung und Transport zu gewährleisten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen und sicherzustellen, dass das Target frei von Verunreinigungen und Umwelteinflüssen bleibt, bis es Ihre Einrichtung erreicht.

Häufig gestellte Fragen

F: Für welche Anwendungen ist das Zink-Tellurid (ZnTe) Sputtering Target am besten geeignet?
A: Es ist ideal für die Abscheidung von Halbleiter-Dünnschichten, die Herstellung von optoelektronischen Geräten, die Sensorherstellung und verschiedene F&E-Anwendungen.

F: Welchen Nutzen hat die hohe Reinheit (≥99%) für den Sputtering-Prozess?
A: Der hohe Reinheitsgrad minimiert die Verunreinigung und sorgt für gleichbleibende Abscheidungsraten und eine hervorragende Schichtqualität mit optimaler Gleichmäßigkeit auf den Substraten.

F: Gibt es Optionen für kundenspezifische Formen und Größen für dieses Sputtertarget?
A: Ja, obwohl die Standardform eine Scheibe ist, kann dieses Produkt kundenspezifisch hergestellt werden, um spezifische Systemanforderungen zu erfüllen.

F: In welchen Branchen werden Sputtertargets aus Zink-Tellurid üblicherweise verwendet?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Optoelektronik, die Sensortechnik und die Spitzenforschung nutzen diese Targets aufgrund ihrer Präzision und Zuverlässigkeit.

F: Wie wird das Produkt verpackt, um eine optimale Qualität beim Transport zu gewährleisten?
A: Das Target wird sorgfältig verpackt, oft mit einer vakuumversiegelten oder speziell entwickelten Schutzverpackung, um Verunreinigungen zu vermeiden und sicherzustellen, dass es in einwandfreiem Zustand ankommt.