ST0326 Molybdän-Tellurid (MoTe2) Sputtering-Target

Molybdän-Tellurid (MoTe2) Sputtering Target Beschreibung

Das Molybdän-Tellurid (MoTe2) Sputtertarget wird mit dem Schwerpunkt auf überlegene Materialeigenschaften und Präzisionstechnik hergestellt. Die hohe Reinheit und die maßgeschneiderte Zusammensetzung des Targets gewährleisten optimale Ergebnisse in verschiedenen Abscheidungsprozessen und tragen so zur Herstellung von hochwertigen Dünnschichten und Halbleiterbauelementen bei.

Molybdän-Tellurid (MoTe2) Sputtertarget-Anwendungen

- Herstellung von Halbleitern: Ideal für die Abscheidung von Dünnfilmschichten in elektronischen und optoelektronischen Geräten.
- Photovoltaische Geräte: Zur Herstellung hocheffizienter Lichtabsorptionsschichten in Solarzellen.
- Display-Technologien: Geeignet für die Herstellung gleichmäßiger Schichten in modernen Anzeigetafeln.
- Forschung und Entwicklung: Wird in der akademischen und industriellen Forschung zur Entwicklung innovativer Materialsysteme eingesetzt.

Molybdän-Tellurid (MoTe2) Sputtering-Target-Verpackung

Unsere Produkte werden sorgfältig verpackt, um Integrität und Stabilität während des Transports zu gewährleisten. Zu den typischen Verpackungen gehören speziell angefertigte vakuumversiegelte Behälter zum Schutz vor Feuchtigkeit und Verunreinigung.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptvorteile der Verwendung von MoTe₂ als Sputtertargetmaterial?
A: MoTe₂ bietet eine ausgezeichnete Reinheit und Stabilität, die zu einer gleichmäßigen Abscheidung von Dünnschichten und einer verbesserten Leistung der Geräte in Halbleiter- und Photovoltaikanwendungen beitragen.

F: Welche Sputtering-Methoden sind mit diesem Target kompatibel?
A: Das Target ist mit RF-, RF-R- und DC-Sputtertechniken kompatibel und bietet somit Flexibilität für verschiedene Abscheidungsprozesse.

F: Kann die Form und Größe des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Scheiben oder kundenspezifischen Formen und Größen erhältlich, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie wirkt sich die hohe Reinheit (≥99%) des MoTe₂-Targets auf seine Leistung aus?
A: Der hohe Reinheitsgrad gewährleistet eine minimale Verunreinigung während des Abscheidungsprozesses, was zu einer überragenden Schichtqualität und einer konstanten Sputterleistung führt.

F: In welchen Branchen werden MoTe₂-Sputter-Targets typischerweise eingesetzt?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Photovoltaik, moderne Displays und die Materialforschung nutzen MoTe₂-Sputtertargets in großem Umfang für ihre Hochleistungs-Dünnschichtabscheidungsfunktionen.