Eingestellt (Eingestellt) ST0320 Cadmiumtellurid (CdTe) Sputtertarget

Cadmiumtellurid (CdTe) Sputtering Target Beschreibung

Das Cadmiumtellurid (CdTe) Sputtering Target ist für Hochleistungsabscheidungsprozesse konzipiert, insbesondere in der Halbleiter- und Photovoltaikfertigung. Das nach strengen Qualitätsstandards hergestellte Target bietet eine außergewöhnliche Reinheit (≥99%) und Gleichmäßigkeit und gewährleistet eine zuverlässige und reproduzierbare Schichtabscheidung. Sein robustes Design in Verbindung mit der Kompatibilität mit RF-Sputtern macht es zur idealen Wahl für die Herstellung von hocheffizienten Solarzellen, elektronischen Geräten und optischen Beschichtungen.

Cadmiumtellurid (CdTe) Sputtering Target Anwendungen

- Herstellung von Halbleiterbauelementen: Unverzichtbar für die Herstellung einheitlicher CdTe-Schichten in elektronischen Geräten.
- Photovoltaische Fertigung: Ideal für die Herstellung von Dünnschichtsolarzellen mit hoher Umwandlungseffizienz.
- Optische Beschichtungen: Für die Abscheidung von Schichten für Sensoren und andere optische Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Wertvoll für Versuchsaufbauten in der Materialwissenschaft und für Dünnschichtstudien.

Cadmiumtellurid (CdTe) Sputtering Target Packing

Unser Cadmiumtellurid (CdTe) Sputtering Target wird mit äußerster Sorgfalt behandelt, um die Qualität während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Die Verpackung ist in kundenspezifischen Größen erhältlich, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Zu den Standardverpackungsoptionen gehören vakuumversiegelte Verpackungen, um die Materialintegrität zu erhalten.

Häufig gestellte Fragen

F: In welchen Branchen werden typischerweise CdTe-Sputter-Targets verwendet?
A: CdTe-Sputtertargets werden in der Regel in der Halbleiter-, Photovoltaik- und Optikindustrie für die hochpräzise Abscheidung von Dünnschichten verwendet.

F: Was unterscheidet das RF-Sputtern von anderen Sputterverfahren?
A: Beim RF-Sputtern wird eine Hochfrequenz-Stromquelle verwendet, die sich besonders gut für die Abscheidung von Schichten auf isolierenden oder zusammengesetzten Targets eignet und eine gleichmäßige Schichtqualität gewährleistet.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des CdTe-Targets während der Produktion aufrechterhalten?
A: Im Produktionsprozess werden strenge Qualitätskontrollmaßnahmen und fortschrittliche Veredelungstechnologien eingesetzt, um sicherzustellen, dass das Target seine hohe Reinheit und Konsistenz beibehält.

F: Sind kundenspezifische Formen und Größen für das CdTe-Sputtertarget erhältlich?
A: Ja, unsere CdTe-Sputter-Targets können in Form und Größe angepasst werden (z. B. Scheiben oder Sonderanfertigungen), um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Sicherheitsaspekte sind bei der Handhabung von CdTe-Materialien zu beachten?
A: Beim Umgang mit CdTe ist es wichtig, die richtigen Sicherheitsprotokolle zu befolgen, einschließlich der Verwendung von persönlicher Schutzausrüstung (PSA) und der Gewährleistung einer angemessenen Belüftung, da Cadmiumverbindungen bei unsachgemäßer Handhabung gefährlich sein können.