ST0315 Wolframselenid (WSe2) Sputtering Target

Wolframselenid (WSe2) Sputtering Target Beschreibung

Das Wolframselenid (WSe2) Sputtertarget wird aus hochreinem WSe₂ hergestellt, was seine Effektivität in hochpräzisen Abscheidungsprozessen gewährleistet. Dieses Target wurde für fortschrittliche Sputtering-Anwendungen entwickelt und bietet eine gleichbleibende Schichtqualität und optimierte Leistung unter verschiedenen Verarbeitungsbedingungen. Seine robusten thermischen Eigenschaften und seine hohe Dichte machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für Branchen, in denen Zuverlässigkeit und Gleichmäßigkeit bei Dünnschichtbeschichtungen gefragt sind.

Wolframselenid (WSe2) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und modernen elektronischen Komponenten.
- Beschichtungstechnologien: Für die Herstellung hochwertiger Beschichtungen für optische, photovoltaische und sensorische Anwendungen.
- Elektronische Geräte: Verbessert die Leistung elektronischer Schaltungen und integrierter Geräte durch Gewährleistung einheitlicher Schichteigenschaften.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten in materialwissenschaftlichen und nanotechnologischen Forschungsumgebungen.

Wolframselenid (WSe2) Sputtering Target Packing

Unsere Wolframselenid (WSe2) Sputtertargets werden sicher verpackt, um Verunreinigungen zu vermeiden und die Unversehrtheit des Produkts während des Transports zu gewährleisten. Die Standardverpackung umfasst Schutzhüllen und Polstermaterialien, wobei auf Anfrage kundenspezifische Verpackungsoptionen erhältlich sind, um speziellen Versandanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Was macht Wolframselenid zu einem idealen Material für Sputtertargets?
A: Wolframselenid bietet eine ausgezeichnete thermische Stabilität und eine hohe Reinheit, die für die gleichmäßige Abscheidung von Dünnschichten in modernen Anwendungen entscheidend sind.

F: Wie wird das Wolframselenid-Sputtertarget hergestellt?
A: Es wird mit Hilfe hochpräziser Form- und Sinterverfahren hergestellt, um eine kontrollierte Mikrostruktur und eine gleichmäßige Leistung zu gewährleisten.

F: In welchen Branchen werden Wolframselenid-Sputtertargets üblicherweise verwendet?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Produktion von Fotovoltaikzellen und fortschrittliche Beschichtungstechnologien profitieren von der Verwendung dieser Hochleistungs-Targets.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, neben den Standard-Scheibenformen können unsere Wolframselenid-Sputter-Targets auch kundenspezifisch gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Wie lauten die Lagerungsempfehlungen für dieses Sputtertarget?
A: Es wird empfohlen, das Target in einer sauberen, trockenen Umgebung zu lagern, idealerweise in der Originalschutzverpackung, um eine mögliche Verunreinigung vor der Verwendung zu vermeiden.