ST0314 Titan-Selenid (TiSe₂) Sputtering Target

Titanselenid (TiSe₂) Sputtering Target Beschreibung

Das Titan-Selenid (TiSe₂)-Sputter-Target wurde für die präzise Abscheidung von Dünnschichten in der Halbleiter- und Optoelektronikfertigung entwickelt. Hergestellt nach einem hohen Reinheitsstandard (≥99%), garantiert dieses Target eine hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit bei physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen. Seine Anpassungsfähigkeit in Form und Größe macht es zu einer idealen Komponente in Forschungslabors und High-Tech-Produktionslinien.

Titan-Selenid (TiSe₂) Sputtering Target Anwendungen

- Herstellung von Halbleiterbauelementen: Unverzichtbar für die Abscheidung dünner Schichten in integrierten Schaltungen und mikroelektronischen Geräten.
- Photovoltaische Zellen: Wird bei der Herstellung von Solarzellen verwendet, um eine effiziente Lichtabsorption und Energieumwandlung zu erreichen.
- Optische Beschichtungen: Werden bei der Herstellung von Sensoren und modernen optischen Komponenten eingesetzt.
- Oberflächentechnik: Ideal für die Modifizierung von Oberflächeneigenschaften in verschiedenen industriellen Anwendungen.
- Forschung und Entwicklung: Weit verbreitet in Laboratorien für materialwissenschaftliche Studien und fortschrittliche Abscheidungsforschung.

Titanium Selenide (TiSe₂) Sputtering Target Packing

Unsere Titan-Selenid-Sputter-Targets werden sorgfältig verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Sie sind sicher in antistatischem, inertem Verpackungsmaterial versiegelt, wobei kundenspezifische Größenoptionen verfügbar sind, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Was sind die typischen Anwendungen für Titanselenid-Sputtertargets?
A: Sie werden hauptsächlich in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungsverfahren, in der Produktion von Photovoltaikzellen und in der modernen Materialforschung eingesetzt.

F2: Wie wird der Reinheitsgrad von ≥99% erreicht?
A: Das Material wird strengen Reinigungsprozessen und umfassenden Qualitätskontrollmaßnahmen unterzogen, einschließlich fortschrittlicher spektroskopischer Analysen, um eine gleichbleibend hohe Reinheit zu gewährleisten.

F3: Können kundenspezifische Formen oder Größen hergestellt werden?
A: Ja, unsere Titan-Selenid-Sputter-Targets sind als Standardscheiben erhältlich oder können kundenspezifisch hergestellt werden, um spezifische Design- und Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F4: Welche Bedeutung hat der Schmelzpunkt von ~1000℃?
A: Der Schmelzpunkt gibt die thermische Stabilität des Materials während des Sputterprozesses an; die Betriebsbedingungen werden jedoch weit unter dieser Temperatur gehalten, um eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten.

F5: Welche Lagerungsbedingungen werden für dieses Sputtertarget empfohlen?
A: Das Target sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung unter Verwendung einer antistatischen Verpackung gelagert werden, um Verunreinigungen zu vermeiden und die Materialintegrität während der Handhabung und des Transports zu erhalten.