ST0312 Niob-Selenid (NbSe2) Sputtertarget

Niob-Selenid (NbSe2) Sputtering Target Beschreibung

Das Niob-Selenid (NbSe2) Sputtering Target wurde für eine optimale Leistung in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen entwickelt. Mit einer hohen Reinheit von ≥99% und einer genau kontrollierten Zusammensetzung von NbSe₂ liefert dieses Target ein konsistentes und effizientes Sputtern und gewährleistet eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung. Es ist ideal für Anwendungen, die eine hohe Zuverlässigkeit und Leistung erfordern, und wird in der Halbleiterherstellung, der modernen Optik und verschiedenen mikroelektronischen Geräten eingesetzt. Seine maßgeschneiderten Scheibenformen ermöglichen Vielseitigkeit und Anpassung an spezifische Verarbeitungssysteme und machen es zu einer entscheidenden Komponente in hochpräzisen industriellen Anwendungen.

Niob-Selenid (NbSe2) Sputtertarget-Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Unverzichtbar für die Abscheidung dünner Schichten in integrierten Schaltkreisen und anderen mikroelektronischen Geräten.
- Optik und Beschichtungen: Für die Herstellung von optischen Beschichtungen und korrosionsbeständigen Schichten.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Labors, die sich mit fortgeschrittenen Materialstudien und neuen Beschichtungstechnologien beschäftigen.
- Industrielle Elektronik: Wird bei der Herstellung von Komponenten verwendet, bei denen Präzision und Gleichmäßigkeit des Films entscheidend sind.

Niob-Selenid (NbSe2) Sputtering Target Packing

Unsere Niob-Selenid-Sputtertargets werden sorgfältig verpackt, um die Produktintegrität zu erhalten und einen sicheren Transport zu gewährleisten.
Verpackungs-Optionen:
- Standardmäßig vakuumversiegelte Verpackung für Discs
- Kundenspezifische Verpackungen sind auf Anfrage erhältlich, um speziellen Versand- und Lagerungsanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist eine Materialquelle, die in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen verwendet wird, um dünne Schichten auf Substraten abzuscheiden, indem Atome von der Oberfläche des Targets gesputtert werden.

F: In welchen Branchen werden Sputtertargets am häufigsten verwendet?
A: Sputtertargets werden häufig in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, in der Mikroelektronik und in verschiedenen Forschungsanwendungen eingesetzt.

F: Kann die Form und Größe des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, unsere Sputtertargets aus Niob-Selenid sind in Form von Scheiben erhältlich oder können kundenspezifisch angefertigt werden, um Ihre spezifischen Prozessanforderungen zu erfüllen.

F: Wie gewährleisten Sie die hohe Reinheit und Qualität der Sputtertargets?
A: Unsere Produkte unterliegen strengen Qualitätskontrollverfahren und werden mit Hilfe fortschrittlicher Techniken hergestellt, um eine Reinheit von ≥99% und eine gleichbleibende Leistung zu gewährleisten.

F: Was sind die idealen Lagerbedingungen für Sputtertargets?
A: Es wird empfohlen, Sputtertargets in einer sauberen, trockenen Umgebung und vorzugsweise in ihrer vakuumversiegelten Originalverpackung zu lagern, um ihre Qualität bis zur Verwendung zu erhalten.