(Eingestellt) ST0307 Galliumselenid (Ga2Se3) Sputtertarget

Galliumselenid (Ga2Se3) Sputtering Target Beschreibung

Das Galliumselenid (Ga2Se3) Sputtering Target wurde entwickelt, um außergewöhnliche Leistungen bei Hightech-Sputteranwendungen zu erbringen. Mit einer Reinheit von ≥99% und einer genau kontrollierten Zusammensetzung gewährleistet dieses Target eine gleichmäßige und zuverlässige Abscheidung in Dünnschicht- und Halbleiterherstellungsprozessen. Die anpassbaren Formen, die als Standardscheiben oder auf Bestellung erhältlich sind, entsprechen den spezifischen Anwendungsanforderungen und sind auch unter Hochtemperaturbedingungen stabil.

Galliumselenid (Ga2Se3) Sputtering Target Anwendungen

- Elektronik: Ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und Dünnschichtschaltungen.
- Dünnschichtabscheidung: Bietet eine gleichmäßige Materialverteilung für Solarzellen und optoelektronische Geräte.
- Sensorherstellung: Geeignet für die Herstellung hochempfindlicher Sensoren und Fotodetektoren.
- Forschung und Entwicklung: Einsatz bei fortgeschrittenen Materialstudien und der Entwicklung von Prototypen in Spitzenlabors.

Galliumselenid (Ga2Se3) Sputtering Target Packing

Unsere Galliumselenid (Ga2Se3) Sputtering Targets sind sicher verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Versands zu erhalten. Jede Einheit ist in einer antistatischen, feuchtigkeitsbeständigen Verpackung verpackt. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind auf Anfrage erhältlich, um speziellen Transport- und Handhabungsanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Wie ist die Zusammensetzung und Reinheit des Sputtertargets?
A: Das Target besteht aus Ga₂Se₃ mit einer Reinheit von ≥99%.

F: In welchen Formen kann das Sputtertarget hergestellt werden?
A: Es ist in Form einer Standardscheibe erhältlich oder kann auf der Grundlage Ihrer spezifischen Anforderungen kundenspezifisch angefertigt werden.

F: Ist das Target mit allen Sputtering-Systemen kompatibel?
A: Ja, es ist für optimale Leistung in verschiedenen Sputtersystemen ausgelegt; wir empfehlen jedoch, die Systemkompatibilität für spezielle Anwendungen zu überprüfen.

F: Kann das Target Hochtemperaturprozessen standhalten?
A: Auf jeden Fall. Mit einem Schmelzpunkt von ~960℃ ist es für Hochtemperatur-Sputter- und Abscheidungsprozesse bestens geeignet.

F: Wie kann ich ein Target in einer kundenspezifischen Größe bestellen?
A: Bitte wenden Sie sich mit Ihren Spezifikationen an unser Vertriebsteam, und wir helfen Ihnen gerne mit einer maßgeschneiderten Lösung.