Eingestellt (Eingestellt) ST0304 Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS) Sputtering Target

Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS) Sputtering Target Beschreibung

Das Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS)-Sputter-Target wurde für die hocheffiziente Abscheidung von Dünnschichten entwickelt, insbesondere für die Herstellung von Photovoltaikzellen und fortschrittlichen Halbleiterbauelementen. Hergestellt mit fortschrittlichen Verarbeitungstechniken, um eine hohe Reinheit von ≥99% und eine einheitlich optimierte Zusammensetzung zu erreichen, liefert dieses Target eine konsistente Sputterleistung mit RF-, RF-R- oder DC-Methoden. Seine präzisen Materialeigenschaften ermöglichen die Herstellung von Solarzellen und elektronischen Komponenten mit hervorragenden elektrischen und optischen Eigenschaften.

Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS) Sputtering Target Anwendungen

- Herstellung von Solarzellen
- Herstellung von Halbleiterbauelementen
- Dünnschicht-Beschichtungsprozesse
- Herstellung von integrierten Schaltkreisen
- Herstellung optoelektronischer Bauelemente

Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS) Sputtertarget-Verpackung

Unser Kupfer-Indium-Gallium-Selenid (CIGS) Sputtering Target wird sicher verpackt, um Verunreinigungen zu vermeiden und seine hochreinen Eigenschaften zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungslösungen, einschließlich vakuumversiegelter Optionen, sind verfügbar, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen. Bitte kontaktieren Sie uns für weitere Details zur Verpackung.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des CIGS-Sputter-Targets?
A: Dieses Target wird in erster Linie für die Abscheidung von Dünnschichten bei der Herstellung von Photovoltaikzellen, Halbleiterbauteilen und optoelektronischen Anwendungen verwendet.

F: Ist das Target mit verschiedenen Sputtering-Systemen kompatibel?
A: Ja, das Target ist mit RF-, RF-R- und DC-Sputtersystemen kompatibel, was die Vielseitigkeit bei verschiedenen Abscheidungsprozessen gewährleistet.

F: Warum ist ein hoher Reinheitsgrad (≥99%) für dieses Sputtertarget wichtig?
A: Ein hoher Reinheitsgrad minimiert Verunreinigungen während der Schichtabscheidung, was für die Erzielung optimaler elektrischer und optischer Leistungen in Halbleiter- und Photovoltaikgeräten entscheidend ist.

F: Kann die Form und Größe des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form einer Standardscheibe erhältlich oder kann je nach den spezifischen Anforderungen der Anwendung kundenspezifisch angefertigt werden.

F: Welche Branchen profitieren von der Verwendung des CIGS-Sputter-Targets?
A: Branchen wie erneuerbare Energien (Solarzellen), Halbleiterherstellung, Optoelektronik und moderne Materialforschung nutzen dieses Target aufgrund seiner zuverlässigen Leistung und hochwertigen Dünnschichtabscheidung.