ST0280 Eisensulfid (FeS) Sputtertarget

Eisensulfid (FeS) Sputtering Target Beschreibung

Das Sputtertarget aus Eisensulfid (FeS) wurde speziell für fortschrittliche Sputterabscheidungsprozesse entwickelt. Durch seine hohe Reinheit und die anpassbaren Formen gewährleistet es eine konsistente und gleichmäßige Abscheidung und ist damit die ideale Wahl für Halbleiter-, Display- und Beschichtungsanwendungen. Durch sein robustes Design und seine Qualitätskontrolle eignet es sich sowohl für die industrielle Produktion als auch für Forschungsumgebungen und bietet zuverlässige Leistung unter anspruchsvollen Bedingungen.

Anwendungen für Eisensulfid (FeS) Sputtering-Targets

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltungen.
- Display-Technologien: Einsatz bei der Herstellung von TFTs, OLED-Bildschirmen und Flachbildschirmen.
- Schützende und funktionelle Beschichtungen: Werden für Oberflächenbehandlungen auf verschiedenen Substraten eingesetzt, um die Verschleißfestigkeit und den Korrosionsschutz zu verbessern.
- Forschung und Entwicklung: Einsatz in Versuchsaufbauten für materialwissenschaftliche und nanotechnologische Projekte.

Eisensulfid (FeS) Sputtering Target Packing

Unser Eisensulfid (FeS) Sputtering Target wird unter kontrollierten Bedingungen verpackt, um die Produktintegrität zu gewährleisten.
Vakuumversiegelte Verpackung: 5 kg pro Beutel, mit kundenspezifischen Verpackungsoptionen je nach Bestellanforderungen.

Häufig gestellte Fragen

F: Wofür werden Sputtering Targets verwendet?
A: Sputtertargets werden in physikalischen Gasphasenabscheidungsverfahren verwendet, um dünne Schichten auf Substraten für Elektronik-, Beschichtungs- und Displayanwendungen zu erzeugen.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad des Sputtertargets auf seine Leistung aus?
A: Höhere Reinheitsgrade gewährleisten eine gleichmäßige Abscheidung, verringern das Risiko einer Verunreinigung und verbessern die Gesamtqualität der abgeschiedenen Schicht.

F: Kann die Form des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, neben den standardmäßigen Scheibenformen können unsere Sputtertargets auch kundenspezifisch angefertigt werden, um bestimmte Prozess- oder Anlagenanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Industriezweige profitieren von der Verwendung von Eisensulfid (FeS) Sputtertargets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Displaytechnologie, Beschichtungsanwendungen und die Materialforschung profitieren von der Verwendung unserer Hochleistungs-Sputtertargets.

F: Wie wird das Eisensulfid (FeS) Sputtering Target für den Versand verpackt?
A: Das Target wird in einer kontrollierten Verpackung vakuumversiegelt, in der Regel in 5 kg-Beuteln, wobei bei Bedarf auch größere kundenspezifische Verpackungen möglich sind.