ST0279 Indium-Sulfid (In2S3) Sputtering-Target

Indium-Sulfid (In2S3) Sputtering Target Beschreibung

Das Indiumsulfid (In2S₃) Sputtertarget wurde für hochpräzise Anwendungen in der Dünnschichtabscheidung und der modernen Elektronikfertigung entwickelt. Durch die Verwendung hochwertiger Materialien und modernster Herstellungsverfahren gewährleistet dieses Target eine gleichbleibende Leistung, hohe Schichtgleichmäßigkeit und außergewöhnliche Zuverlässigkeit bei verschiedenen Sputterverfahren, einschließlich RF, RF-R und DC. Der hohe Schmelzpunkt und die optimierte Dichte machen es für anspruchsvolle industrielle Umgebungen geeignet, während die anpassbaren Größen den verschiedenen Anwendungsanforderungen gerecht werden.

Indium-Sulfid (In2S3) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung hochwertiger Schichten in elektronischen und photovoltaischen Geräten.
- Halbleiterherstellung: Bietet präzise Materialabscheidung für die Herstellung modernster Geräte.
- Photovoltaische Zellen: Bietet eine gleichmäßige Abscheidung, die für eine effiziente Solarzellenleistung entscheidend ist.
- Wissenschaftliche Forschung: Dient als zuverlässiges Material für Versuchsaufbauten in der modernen Materialforschung.

Indium-Sulfid (In2S3) Sputtering-Target-Verpackung

Unsere In2S₃-Sputter-Targets werden mit äußerster Sorgfalt verpackt, um ihre Reinheit und Leistungsintegrität zu erhalten. In der Regel sind die Targets vakuumversiegelt und sicher verpackt, um Verunreinigungen und mechanische Beschädigungen während des Transports zu vermeiden.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Sputtering-Methoden sind mit dem Indiumsulfid (In2S₃)-Sputtering-Target kompatibel?
A: Das Target unterstützt RF-, RF-R- und DC-Sputterverfahren und ist damit vielseitig für eine Reihe von Anwendungen einsetzbar.

F: Wie erhalten Sie einen hohen Reinheitsgrad (≥99%) des Sputtertargets aufrecht?
A: Unsere strengen Qualitätskontrollverfahren und fortschrittlichen Fertigungstechniken gewährleisten, dass jede Charge den hohen Reinheitsstandard erreicht und beibehält.

F: Können die Sputtertargets in kundenspezifischen Größen hergestellt werden?
A: Ja, abgesehen von unseren Standard-Scheibenformen bieten wir gerne kundenspezifische Größen an, um Ihre spezifischen Projektanforderungen zu erfüllen.

F: Was sind die Hauptanwendungen des Indiumsulfid (In2S₃) Sputtertargets?
A: Es wird vor allem bei der Dünnschichtabscheidung, der Halbleiterherstellung, der Produktion von Fotovoltaikzellen und in der modernen Materialforschung eingesetzt.

F: Wie trägt der hohe Schmelzpunkt zur Leistung des Targets während des Sputterns bei?
A: Der hohe Schmelzpunkt (1010℃) gewährleistet eine ausgezeichnete thermische Stabilität, so dass das Target auch unter Hochtemperatur-Sputterbedingungen zuverlässig funktioniert.