ST0276 Chromsulfid (Cr2S3) Sputtering Target

Chromsulfid (Cr2S3) Sputtering Target Beschreibung

Das Chromsulfid (Cr2S3) Sputtering Target wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen moderner Dünnschichtabscheidungsprozesse zu erfüllen. Mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt, gewährleistet dieses Target eine äußerst konsistente Materialzusammensetzung, die ideal für präzise Beschichtungsanwendungen ist. Seine anpassbaren Formen und Größen ermöglichen maßgeschneiderte Lösungen in verschiedenen industriellen Kontexten und gewährleisten eine optimale Leistung in einem breiten Spektrum von Anwendungen. Die einzigartigen chemischen Eigenschaften und die hohe Dichte von Cr₂S₃ ermöglichen eine gleichmäßige Abscheidung und machen dieses Produkt zu einer zuverlässigen Wahl für fortschrittliche Halbleitergeräte, Solarzellen und Sensortechnologien.

Chromsulfid (Cr2S3) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Unverzichtbar für die Halbleiterherstellung und fortschrittliche Beschichtungsverfahren.
- Photovoltaische Geräte: Wird bei der Entwicklung von Dünnschicht-Solarzellen verwendet.
- Sensorherstellung: Liefert hochwertige Schichten für eine effiziente Sensorleistung.
- Schutzbeschichtungen: Werden für die Korrosionsbeständigkeit und Langlebigkeit von Industriekomponenten eingesetzt.

Chromsulfid (Cr2S3) Sputtering Target Packing

Unsere Chromsulfid (Cr2S3)-Sputter-Targets werden mit größter Sorgfalt verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Sie sind in anpassbaren Größen und Konfigurationen erhältlich. Zu den Standardverpackungsoptionen gehören feuchtigkeitsdichte, versiegelte Behälter, die dafür ausgelegt sind, die hohe Qualität des Sputter-Targets während seines gesamten Lebenszyklus zu erhalten.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtering-Target ist eine Materialquelle, die in physikalischen Aufdampfprozessen zur Abscheidung dünner Schichten auf Substraten verwendet wird.

F: Welche Branchen profitieren von der Verwendung von Chromsulfid-Sputtertargets?
A: Sie werden in der Elektronik, der Photovoltaik, der Sensorherstellung und in anderen Sektoren, die eine präzise Abscheidung dünner Schichten erfordern, häufig eingesetzt.

F: Wie wird die Reinheit des Sputtertargets aufrechterhalten?
A: Das Target wird unter strengen Qualitätskontrollverfahren hergestellt, um eine Reinheit von ≥99 % zu gewährleisten, die für eine gleichbleibende Leistung entscheidend ist.

F: Sind die Formen der Sputtertargets festgelegt?
A: Nein, zu den Standardformen gehören Scheiben, aber die Targets können auch kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Was macht Chromsulfid (Cr2S3) ideal für die Dünnschichtabscheidung?
A: Seine ausgezeichnete chemische Stabilität, hohe Dichte und außergewöhnliche Reinheit ermöglichen die Bildung gleichmäßiger, hochwertiger Dünnschichten, die für moderne Beschichtungsanwendungen unerlässlich sind.