ST0275 Kalziumsulfid (CaS) Sputtertarget

Calciumsulfid (CaS) Sputtering Target Beschreibung

Das Calciumsulfid (CaS) Sputtering Target wird nach strengen Qualitätsstandards mit einer Zusammensetzung aus reinem CaS (≥99%) hergestellt. Dieses Target wurde für die präzise und effiziente Sputtering-Abscheidung entwickelt und gewährleistet Konsistenz und Stabilität in Hochtemperatur-Verarbeitungsumgebungen. Dank seiner robusten Eigenschaften und anpassbaren Formen eignet es sich ideal für Anwendungen, die von der Herstellung elektronischer Geräte über optische Beschichtungen bis hin zur Forschung in der modernen Materialwissenschaft reichen.

Kalziumsulfid (CaS) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Einsatz bei der Herstellung hochwertiger Dünnschichten für Halbleiter und optoelektronische Geräte.
- Herstellung elektronischer Geräte: Wird in Sputtering-Prozessen verwendet, um einheitliche Schichten in integrierten Schaltungen und Sensoren zu erzeugen.
- Optische Beschichtungen: Bietet ein zuverlässiges Material für Beschichtungsverfahren, die bei der Herstellung von Spiegeln, Linsen und anderen optischen Komponenten eingesetzt werden.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Labors und industrielle F&E-Projekte, die sich auf neuartige Materialanwendungen und Beschichtungen konzentrieren.

Calciumsulfid (CaS) Sputtering Target Packing

Das Calciumsulfid (CaS) Sputtering Target wird sicher verpackt, um seine Reinheit und Leistungsfähigkeit zu erhalten. Zu den schützenden Verpackungsmethoden gehören vakuumversiegelte Behälter und kundenspezifische Verpackungslösungen, die auf die Anforderungen des Kunden zugeschnitten sind. Standardverpackungen sind in Größen erhältlich, die je nach Anwendung und Mengenbedarf angepasst werden können.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein festes Material, das in PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) verwendet wird, um dünne Schichten durch einen Sputtermechanismus auf Substrate aufzubringen.

F: Welche Anwendungen profitieren am meisten von der Verwendung eines CaS-Sputtertargets?
A: Anwendungen in der Elektronik, bei optischen Beschichtungen und in der Spitzenforschung profitieren besonders von der hohen Reinheit und der stabilen Leistung von CaS-Sputtertargets.

F: Sind für dieses Target maßgeschneiderte Formen erhältlich?
A: Ja, das Calciumsulfid (CaS)-Sputter-Target ist als Scheibe oder als Sonderanfertigung für spezielle Kundenanforderungen erhältlich.

F: Wie wirkt sich der hohe Schmelzpunkt von CaS auf seine Leistung bei Sputtering-Prozessen aus?
A: Der hohe Schmelzpunkt von 2525℃ stellt sicher, dass das Target seine strukturelle Integrität und Leistung bei Hochtemperatur-Sputterprozessen beibehält.

F: Welche Maßnahmen werden ergriffen, um die Reinheit und Konsistenz des CaS-Sputtertargets zu gewährleisten?
A: Das Target wird unter strengen Qualitätskontrollmaßnahmen hergestellt, die eine Reinheit von ≥99 % gewährleisten, was eine gleichbleibende Leistung und Zuverlässigkeit bei anspruchsvollen Anwendungen garantiert.