ST0274 Kadmiumsulfid (CdS) Sputtering Target

Cadmiumsulfid (CdS) Sputtering Target Beschreibung

Das Cadmiumsulfid (CdS) Sputtering Target wird aus hochwertigem CdS mit einem Reinheitsgrad von ≥99% hergestellt und gewährleistet eine außergewöhnliche Leistung in RF-Sputtersystemen. Dieses Target ist in Scheibenform oder in kundenspezifischen Formen erhältlich und wurde speziell für die präzise Abscheidung von Dünnschichten entwickelt, die für die Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen und fortschrittliche elektronische Geräte entscheidend sind. Das Target weist ein für CdS typisches gelbes, kristallines Aussehen auf, und seine zuverlässigen Eigenschaften unterstützen effiziente Abscheidungsprozesse auch unter anspruchsvollen Betriebsbedingungen.

Cadmiumsulfid (CdS) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und optischen Beschichtungen.
- Herstellung von Solarzellen: Verbessert die Effizienz und Leistung von Solarzellen.
- Sensortechnik: Wird für die Herstellung von hochpräzisen Sensoren und Detektoren verwendet.
- Elektronische Komponenten: Erleichtert die Herstellung elektronischer Hochleistungsschaltungen.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten in materialwissenschaftlichen und nanotechnologischen Projekten.

Cadmiumsulfid (CdS) Sputtering Target Packing

Unser Cadmiumsulfid (CdS) Sputtering Target wird sorgfältig in feuchtigkeitsdichten, vakuumversiegelten Behältern verpackt, um seine unverfälschte Qualität bei Lagerung und Transport zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungslösungen sind verfügbar, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die idealen Sputtering-Bedingungen für die Verwendung des CdS-Targets?
A: Für eine optimale Leistung sollten Sie die vom Hersteller Ihres Sputtersystems empfohlenen RF-Sputterbedingungen mit den entsprechenden Leistungs- und Druckeinstellungen verwenden.

F: Kann das CdS-Zerstäubungstarget in Form und Größe angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Scheiben erhältlich oder kann nach Maß angefertigt werden, um den spezifischen Anforderungen von Anlagen und Anwendungen zu entsprechen.

F: Für welche Anwendungen ist das CdS-Sputter-Target am besten geeignet?
A: Dieses Target ist ideal für die Abscheidung von Halbleiter-Dünnschichten, optische Beschichtungen, photovoltaische Solarzellen und die Herstellung moderner elektronischer Komponenten.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des CdS-Targets sichergestellt?
A: Unser Herstellungsprozess umfasst strenge Qualitätskontrollmaßnahmen und verwendet CdS von höchster Qualität, um eine hohe Reinheit und gleichbleibende Leistung zu gewährleisten.

F: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind bei der Installation und Verwendung des CdS-Sputtertargets zu beachten?
A: Befolgen Sie stets die Richtlinien für das Sputtersystem, achten Sie auf eine ordnungsgemäße Handhabung, um Kontaminationen zu vermeiden, und lagern Sie das Target unter feuchtigkeitsfreien, kontrollierten Bedingungen, um seine Integrität zu erhalten.