ST0251 Strontiumfluorid (SrF₂) Sputtering Target

Strontiumfluorid (SrF₂) Sputtering Target Beschreibung

Das Strontiumfluorid (SrF₂) Sputtering Target wurde für hervorragende Leistungen bei Dünnschichtabscheidungsprozessen entwickelt. Es wird mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt und ist in Scheiben- oder kundenspezifischen Formen erhältlich. Dieses Target ist für eine Vielzahl industrieller Anwendungen optimiert. Mit einem Schmelzpunkt von 1473℃ und einer Dichte von 4,24 g/cm³ gewährleistet das Material Leistungsstabilität auch unter anspruchsvollen Verarbeitungsbedingungen. Seine hochreine Zusammensetzung ist ideal für die Herstellung gleichmäßiger und fehlerfreier Beschichtungen in Halbleiter-, optischen und elektronischen Anwendungen.

Strontiumfluorid (SrF₂) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Perfekt für die Herstellung hochwertiger Beschichtungen in der Halbleiterfertigung und für optische Geräte.
- Elektronik: Für die Herstellung von Schichten für Kondensatoren, Sensoren und andere elektronische Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Wird in Labors für die Entwicklung neuer Sputtertechniken und fortschrittlicher Materialstudien eingesetzt.
- Industrielle Beschichtungen: Werden in Prozessen eingesetzt, die präzise und haltbare dünne Schichten für eine verbesserte Leistung erfordern.

Strontiumfluorid (SrF₂) Sputtering Target Packing

Unsere Strontiumfluorid (SrF₂)-Sputter-Targets werden sorgfältig verpackt, um ihre Unversehrtheit während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten.
Wir bieten vakuumversiegelte Verpackungen mit Optionen für kundenspezifische Gewichte und Abmessungen, um den spezifischen Kundenanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Warum ist das SrF₂-Sputtertarget für Hochleistungsanwendungen geeignet?
A: Die hohe Reinheit (≥99%), die einheitliche Zusammensetzung und die maßgeschneiderten Formoptionen gewährleisten eine effiziente und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung.

F: In welchen Branchen wird das SrF₂-Sputtertarget am häufigsten verwendet?
A: Es wird häufig in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, in der Elektronikfertigung und bei verschiedenen F&E-Anwendungen eingesetzt.

F: Wie wird die Qualität und Reinheit des SrF₂-Sputtertargets sichergestellt?
A: Das Produkt wird unter strengen Qualitätskontrollen und unter Einsatz modernster Technologie hergestellt, um ein hochreines Material zu gewährleisten, das den Industriestandards entspricht.

F: Sind für das SrF₂-Sputtering-Target kundenspezifische Größen erhältlich?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Scheiben erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Was sollte bei der Lagerung von SrF₂-Sputter-Targets beachtet werden?
A: Es wird empfohlen, die Targets in einer kontrollierten Umgebung zu lagern, vorzugsweise vakuumversiegelt, um Verunreinigungen zu vermeiden und die Qualität über die Zeit zu erhalten.