ST0250 Natriumfluorid (NaF) Sputtering Target

Natriumfluorid (NaF) Sputtering Target Beschreibung

Das Natriumfluorid (NaF)-Sputter-Target wird mit Hilfe fortschrittlicher Fertigungstechniken hergestellt, um höchste Reinheit und Konsistenz zu gewährleisten. Seine außergewöhnliche thermische Stabilität, die anpassbaren Formen und die zuverlässige Sputterleistung machen es zur idealen Wahl für die präzise Abscheidung von Dünnschichten in der Mikroelektronik, der Optik und bei Oberflächenbeschichtungsanwendungen.

Natriumfluorid (NaF) Sputtering Target Anwendungen

- Mikroelektronik: Perfekt für die Abscheidung von Dünnschichten in der Halbleiterfertigung.
- Optische Beschichtungen: Verwendung für hochwertige optische Schichten in Linsen und Spiegeln.
- Display-Technologien: Verbessert die Leistung von Plasma- und LCD-Displays.
- Oberflächentechnik: Bietet haltbare Beschichtungen für industrielle Werkzeuge und Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für experimentelle Sputtering-Prozesse in der modernen Materialforschung.

Natriumfluorid (NaF) Sputtering Target Verpackung

Unsere Natriumfluorid (NaF)-Sputter-Targets werden in vakuumversiegelten Behältern verpackt, um ihre hohe Reinheit und Leistungsfähigkeit zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen und sicheren Transport und Lagerung zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Wie lautet die CAS-Nummer für Natriumfluorid (NaF)?
A: Die CAS-Nummer für Natriumfluorid (NaF) lautet 7681-49-4.

F: Welche Sputtertechniken können mit diesem Target verwendet werden?
A: Dieses Target unterstützt RF-, RF-R- und DC-Sputterverfahren.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann nach Kundenwunsch gefertigt werden, um spezifische Anforderungen zu erfüllen.

F: Welchen Reinheitsgrad hat das Natriumfluorid (NaF) Sputtering Target?
A: Das Target wird mit einer Reinheit von ≥99% hergestellt.

F: In welchen Branchen werden Natriumfluorid-Sputtertargets üblicherweise verwendet?
A: Sie werden häufig in der Mikroelektronik, Optik, Displaytechnik, Oberflächentechnik und in der modernen Materialforschung eingesetzt.