ST0246 Magnesiumfluorid (MgF2) Sputtering Target

Name: ST0246 Magnesiumfluorid (MgF2) Sputtering Target
SKU: ST0246
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Katalog-Nr.	ST0246
Zusammensetzung	MgF₂
CAS-Nummer	7783-40-6
Reinheit	≥99% (99,9% / 99,99% verfügbar)
Formular	Discs, oder Sonderanfertigungen
Synonyme	Magnesiumfluorid Sputtering Target, MgF2 Target, Optische Beschichtung Target

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FAQ

F: Welchen Reinheitsgrad von MgF2-Target benötige ich für optische Beschichtungen?

A: 99,9 % Reinheit ist für die meisten Antireflex- und optischen Schutzschichten ausreichend. 99,99 % werden für Laseroptiken und hochpräzise Halbleiteranwendungen empfohlen, wo Spuren von Verunreinigungen die Übertragung beeinträchtigen oder Defekte verursachen können.

F: Warum ist für MgF2 eine RF-Sputterung erforderlich?

A: MgF2 ist ein elektrischer Isolator. Beim DC-Sputtern kommt es zu einer Ladungsbildung auf der Oberfläche des Targets, was zu Lichtbogenbildung und Prozessinstabilität führt. RF-Sputtern ist erforderlich.

F: Müssen MgF2-Ziele verklebt werden?

A: Ja, Kleben wird empfohlen. MgF2 ist spröde und hat eine geringe Wärmeleitfähigkeit. Ohne ordnungsgemäße Verklebung mit einer gekühlten Trägerplatte können thermische Spannungen das Target während des Sputterns brechen. Die Verklebung mit Indium ist Standard; für Systeme, die kein Indium verwenden können, ist eine Elastomerverklebung erhältlich.

F: Wie hoch ist die typische Sputteringrate für MgF2?

A: Die Sputtering-Raten hängen von der HF-Leistung, dem Druck und der Systemkonfiguration ab. Typische Raten reichen von 5-15 Å/sec bei 3-5 W/cm². Kontaktieren Sie uns mit den Details Ihres Systems, um spezifische Empfehlungen zu erhalten.

F: Wie lange ist die Vorlaufzeit für ein kundenspezifisches MgF2-Target?

A: Standardscheiben (2"-6") werden normalerweise innerhalb von 1-2 Wochen versandt. Kundenspezifische Formen dauern je nach Komplexität 2-3 Wochen.

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Katalognummer	ST0246
Werkstoff	Magnesiumfluorid (MgF₂)
Reinheit	≥99% (99,9% / 99,99% verfügbar)
CAS-Nummer	7783-40-6
Farbe/Erscheinungsbild	Weiß kristallin
Schmelzpunkt	1,261°C
Theoretische Dichte	3,15-3,18 g/cm³
Relative Dichte	>98%
Brechungsindex (550nm)	1.38
Transmissionsbereich	0,12-8 μm
Sputter-Verfahren	RF
Art der Bindung	Indium, Elastomer
Standard-Durchmesser	2", 3", 4", 6"
Dicke	0,125", 0,250", oder kundenspezifisch
Verpackung	Vakuumversiegelt

Eigenschaft	Spezifikation
Werkstoff	Magnesiumfluorid (MgF₂)
Symbol	MgF₂
Schmelzpunkt	1263℃
Dichte	3,15 g/cm³
Sputtern	RF
Art der Bindung	Indium, Elastomer
Verfügbare Größen	Kundenspezifisch

ST0246 Magnesiumfluorid (MgF2) Sputtering Target

Magnesiumfluorid (MgF2) Sputtering Target Beschreibung

Spezifikation

Magnesiumfluorid (MgF₂) Sputtering Target Anwendungen

Magnesiumfluorid (MgF₂) Sputtertarget-Verpackung

Spezifikation

SDS

SICHERHEITSDATENBLATT

Fall

KUNDENBEWERTUNGEN

FAQ

F: Welchen Reinheitsgrad von MgF2-Target benötige ich für optische Beschichtungen?

F: Warum ist für MgF2 eine RF-Sputterung erforderlich?

F: Müssen MgF2-Ziele verklebt werden?

F: Wie hoch ist die typische Sputteringrate für MgF2?

F: Wie lange ist die Vorlaufzeit für ein kundenspezifisches MgF2-Target?

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