ST0237 Ceriumfluorid (CeF3) Sputtering-Target

Ceriumfluorid (CeF3) Sputtering Target Beschreibung

Das Ceriumfluorid (CeF3) Sputtering Target wurde für hohe Effizienz und Zuverlässigkeit bei Dünnfilmbeschichtungsanwendungen entwickelt. Hergestellt unter strenger Qualitätskontrolle und unter Verwendung fortschrittlicher Fertigungstechniken, garantiert dieses Target eine gleichbleibende Leistung bei RF-Sputterprozessen. Seine hohe Reinheit und spezielle Zusammensetzung machen es ideal für die Abscheidung von Schichten in Halbleiterbauelementen, optischen Beschichtungen und anderen innovativen Anwendungen.

Das auf Präzision ausgelegte Target bietet eine ausgezeichnete thermische Stabilität und hervorragende Bindungseigenschaften, was zu einer langen Lebensdauer auch unter anspruchsvollen industriellen Bedingungen beiträgt. Dies macht es zur ersten Wahl für Forscher und Hersteller, die eine präzise Kontrolle über die Gleichmäßigkeit und Dicke der Schichten benötigen.

Ceriumfluorid (CeF3) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiter und Elektronik: Ideal für die Abscheidung von Dünnschichten in integrierten Schaltkreisen, Displays und Solarzellen.
- Optische Beschichtungen: Gewährleistet hohe Gleichmäßigkeit und Qualität bei optischen Präzisionsanwendungen.
- Energiegeräte: Geeignet für Komponenten in photovoltaischen Zellen, Batterien und anderen Energiesystemen.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für experimentelle Untersuchungen in der Materialwissenschaft und Nanotechnologie.

Ceriumfluorid (CeF3) Sputtering Target Packing

Unser Ceriumfluorid (CeF3) Sputtering Target ist sicher verpackt, um die Unversehrtheit des Produkts während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Es sind auch kundenspezifische Verpackungslösungen erhältlich, die den spezifischen Handhabungs- und Versandanforderungen entsprechen und einen optimalen Schutz und eine einfache Handhabung gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen von Ceriumfluorid (CeF3) Sputtertargets?
A: Sie werden in erster Linie für die Abscheidung von Dünnschichten in der Halbleiterherstellung, für optische Beschichtungen und für die Herstellung von Energiegeräten verwendet.

F: Welche Vorteile bietet das RF-Sputtern bei der Verwendung dieses Targets?
A: Das RF-Sputtern ist ideal für die Verarbeitung isolierender Materialien und ermöglicht eine bessere Kontrolle über die Gleichmäßigkeit der Schichten und die Abscheidungsraten.

F: Kann ich eine kundenspezifische Form für das Sputtertarget anfordern?
A: Ja, das Sputtertarget aus Ceriumfluorid (CeF3) ist in Scheibenform erhältlich oder kann kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Designanforderungen zu erfüllen.

F: Was gewährleistet die hohe Leistung dieses Sputtertargets?
A: Die Kombination aus hoher Reinheit (≥99%), präzisen Herstellungsprozessen und fortschrittlichen Verbindungstechniken garantiert eine hervorragende Leistung und Haltbarkeit.

F: Wie wird dieses Sputtertarget für den Versand verpackt?
A: Das Target wird sorgfältig verpackt, wobei kundenspezifische Lösungen zur Verfügung stehen, um den Schutz während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten und seine Integrität und Leistung zu erhalten.