ST0218 Vanadiumnitrid (VN) Sputtertarget

Vanadiumnitrid (VN) Sputtering Target Beschreibung

Das Vanadiumnitrid (VN)-Sputtertarget wurde nach dem neuesten Stand der Technik entwickelt, um eine überragende Gleichmäßigkeit und Haltbarkeit in anspruchsvollen Abscheidungsumgebungen zu gewährleisten. Seine hochreine Zusammensetzung gewährleistet gleichbleibende Sputtereigenschaften und optimale Leistung in Anwendungen wie der Halbleiterherstellung, der Dünnschichtabscheidung und der Oberflächenbehandlung.

Vanadiumnitrid (VN) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Unverzichtbar für die Dünnschichtabscheidung in integrierten Schaltungen und bei der Herstellung von Bauelementen.
- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Beschichtungen mit kontrollierten Mikrostrukturen.
- Optoelektronische Geräte: Bietet hohe Zuverlässigkeit für lichtemittierende Dioden und photovoltaische Zellen.
- Oberflächenbeschichtungen: Verbessert die Verschleißfestigkeit und Leistung von Werkzeugen und Komponenten.
- Forschung und Entwicklung: Einsatz in der modernen Materialforschung zur Entwicklung von Sputtertargets der nächsten Generation.

Vanadiumnitrid (VN) Sputtertarget-Packung

Unsere VN-Sputtertargets werden unter strenger Qualitätskontrolle verpackt, um ihren hochreinen Zustand zu erhalten.
Vakuumversiegelte Verpackung: 5 kg pro Beutel, 25 kg pro Fass.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des VN Sputtering Targets?
A: Dieses Target wird in erster Linie für die Abscheidung von Dünnschichten in der Halbleiterherstellung, der Optoelektronik und der Oberflächenbeschichtungstechnologie verwendet.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad auf die Leistung des Targets aus?
A: Der hohe Reinheitsgrad von ≥99% gewährleistet eine gleichbleibende Sputterleistung, minimiert die Verunreinigung und verbessert die Gesamtqualität der abgeschiedenen Schichten.

F: Kann das Target individuell angepasst werden?
A: Ja, das VN-Sputtering-Target kann in Standardscheiben oder in kundenspezifischen Formen hergestellt werden, um den spezifischen Anlagen- und Anwendungsanforderungen zu entsprechen.

F: Welche Bedeutung hat die angegebene CAS-Nummer?
A: Die CAS-Nummer (24646-85-3) identifiziert Vanadiumnitrid eindeutig und gewährleistet eine ordnungsgemäße Rückverfolgbarkeit und die Einhaltung der Industrievorschriften.

F: Ist für das VN Sputtering Target eine besondere Handhabung erforderlich?
A: Es wird empfohlen, das Target sorgfältig zu behandeln, um Verunreinigungen und mechanische Beschädigungen zu vermeiden, die seine Sputterleistung beeinträchtigen können.