ST0214 Niobnitrid (NbN) Sputtering Target

Niobnitrid (NbN) Sputtering Target Beschreibung

Das Niobnitrid (NbN) Sputtering Target wurde speziell für fortschrittliche industrielle Anwendungen entwickelt, die eine präzise Dünnschichtabscheidung erfordern. Dieses Target wird mit einer hohen Reinheit von ≥99% hergestellt und ist für eine hervorragende Leistung bei RF-Sputterprozessen ausgelegt. Seine anpassbaren Formen, darunter Standardscheiben und maßgeschneiderte Konfigurationen, ermöglichen vielseitige Anwendungen für verschiedene Technologien. Mit einem hohen Schmelzpunkt von 2573℃ und einer Dichte von 8,47 g/cm³ garantiert dieses Produkt eine stabile Leistung auch unter extremen Bedingungen.

Niobnitrid (NbN) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für Mikroelektronik, Photovoltaik und optische Beschichtungen.
- Photonik: Für die Herstellung von Komponenten in Lasern und anderen photonischen Geräten.
- Halbleiterbauelemente: Unterstützt die Produktion von hochpräzisen Halbleiterkomponenten.
- Supraleitende Schichten: Anwendbar auf dem aufstrebenden Gebiet der supraleitenden Elektronik.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für fortgeschrittene Materialstudien und experimentelle Anwendungen.

Niobnitrid (NbN) Sputtering Target Packing

Unsere NbN-Sputtertargets werden mit äußerster Sorgfalt verpackt, um ihre Unversehrtheit während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten.
- Die vakuumversiegelte Verpackung gewährleistet den Schutz vor Verunreinigungen.
- Die Scheiben sind sicher in maßgeschneiderten Behältern untergebracht, um Beschädigungen während der Handhabung zu vermeiden.
- Die Verpackungsgrößen können je nach den spezifischen Kundenanforderungen angepasst werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Vorteile bietet das NbN Sputtering Target für die Dünnschichtabscheidung?
A: Es bietet eine hohe Reinheit und Stabilität und gewährleistet gleichmäßige Dünnfilmbeschichtungen, die für elektronische und photonische Anwendungen entscheidend sind.

F: Welche Sputtering-Techniken sind mit diesem Target kompatibel?
A: Das NbN-Target ist für RF- und RF-R-Sputterverfahren optimiert und ermöglicht eine hervorragende Leistung in verschiedenen Abscheidungssystemen.

F: Wie können kundenspezifische Größen für das Sputtertarget angefordert werden?
A: Kunden können während des Bestellvorgangs die gewünschten Abmessungen und Formen angeben, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Branchen profitieren am meisten vom Einsatz von NbN-Sputter-Targets?
A: Branchen wie die Mikroelektronik, die Photonik, die Halbleiterherstellung und Forschungslabors profitieren in hohem Maße von den fortschrittlichen Eigenschaften des Materials.

F: Wie wird die Qualität während des Verpackungs- und Versandprozesses sichergestellt?
A: Unsere Produkte werden vakuumversiegelt und sicher in maßgeschneiderten Behältern verpackt, um Verunreinigungen und physische Schäden während des Transports zu vermeiden.