ST0196 Titanium Pentoxid (Ti3O5) Sputtering Target

Titanium Pentoxide (Ti3O5) Sputtering Target Beschreibung

Das Titanium Pentoxide (Ti3O5) Sputtering Target ist ein Hochleistungsmaterial, das für präzise industrielle Anwendungen entwickelt wurde. Das unter strengen Qualitätskontrollen hergestellte Target erreicht eine Reinheit von ≥99% und ist sowohl in Standardscheibenformen als auch in kundenspezifischen Ausführungen erhältlich. Es wurde entwickelt, um eine gleichbleibende Leistung in fortschrittlichen Abscheidungsprozessen zu liefern und eine ausgezeichnete Haftung und Oberflächengüte zu gewährleisten. Dieses Material ist eine ausgezeichnete Wahl für die Vakuumbeschichtung, die Halbleiterherstellung und eine Reihe von Anwendungen zur Oberflächenmodifikation, bei denen Haltbarkeit und Zuverlässigkeit an erster Stelle stehen.

Titanpentoxid (Ti3O5) Sputtering Target Anwendungen

- Vakuum-Beschichtung: Ideal für die Abscheidung von Dünnschichten in optischen, elektronischen und dekorativen Anwendungen.
- Herstellung von Halbleitern: Ermöglicht die präzise Materialabscheidung für mikroelektronische Komponenten.
- Oberflächenmodifikation: Für die Herstellung von dauerhaften Beschichtungen und funktionellen Oberflächen in verschiedenen Industriewerkzeugen.
- Forschung und Entwicklung: Bietet ein hochreines Target für experimentelle und prototypische Anwendungen in der modernen Materialwissenschaft.

Titanpentoxid (Ti3O5) Sputtertarget-Verpackung

Unser Titanium Pentoxide Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine hohe Reinheit und Leistung zu erhalten. Die Verpackung wird entsprechend den Kundenanforderungen angepasst und umfasst in der Regel sichere, feuchtigkeitskontrollierte Bedingungen, um sicherzustellen, dass das Target während der Lagerung und des Transports in optimalem Zustand bleibt.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Industriezweige profitieren am meisten von der Verwendung des Titanium Pentoxide (Ti3O5) Sputtering Targets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Optik und die fortschrittliche Oberflächenbeschichtung sind die Hauptnutznießer dieses hochreinen Sputtertargets.

F: Kann die Form des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, abgesehen von der Standard-Scheibenform sind auch kundenspezifische Formen erhältlich, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Bedeutung hat der hohe Schmelzpunkt des Titanium Pentoxide Sputtering Targets?
A: Der hohe Schmelzpunkt (~1800-1900℃) stellt sicher, dass das Target Hochtemperaturprozessen ohne Beeinträchtigung standhalten kann, was für eine zuverlässige Sputterleistung entscheidend ist.

F: Wie wirkt sich der Reinheitsgrad von ≥99% auf die Leistung des Sputtertargets aus?
A: Ein Reinheitsgrad von ≥99% gewährleistet minimale Verunreinigungen, was zu einem konsistenten Sputterverhalten und hochwertigen dünnen Schichten oder Beschichtungen in industriellen Anwendungen führt.

F: Welche Vorkehrungen werden bei der Verpackung getroffen, um die Qualität des Sputtertargets zu gewährleisten?
A: Die Targets werden unter feuchtigkeitskontrollierten, sicheren Bedingungen verpackt, und es werden maßgeschneiderte Verpackungslösungen bereitgestellt, um das Material während der Lagerung und des Transports zu schützen.