ST0194 Zinnoxid (SnO2) Sputtering Target

Zinnoxid (SnO2) Sputtering Target Beschreibung

Das Zinnoxid (SnO2) Sputtertarget wurde für Hochleistungsanwendungen bei der Abscheidung von dünnen Schichten entwickelt. Das mit einer Reinheit von ≥99% hergestellte Target gewährleistet eine gleichmäßige Zerstäubung sowohl bei RF- als auch bei RF-R-Methoden und ist damit ideal für Anwendungen, die Präzision und Konsistenz erfordern. Aufgrund seiner robusten Eigenschaften, einschließlich eines hohen Schmelzpunkts von 1630℃ und einer Dichte von 6,95 g/cm³, eignet es sich für fortschrittliche Anwendungen in elektronischen Komponenten, optischen Beschichtungen und Sensortechnologien.

Zinnoxid (SnO2) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Gewährleistet eine konsistente, qualitativ hochwertige Schichtbildung bei der Halbleiterherstellung und bei optischen Beschichtungsverfahren.
- Elektronik-Fertigung: Weit verbreitet bei der Herstellung leitfähiger und transparenter Oxidschichten für Displays und Photovoltaikgeräte.
- Sensorherstellung: Sorgt für zuverlässige Leistung bei Gassensoren und anderen chemischen Sensoranwendungen.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für die akademische und industrielle Forschung, die hochreine Sputtertargets benötigt.

Zinnoxid (SnO2) Sputtertarget-Verpackung

Unsere Zinnoxid (SnO2) Sputtertargets werden sicher verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Transports zu erhalten. Kundenspezifische Bestellungen sind möglich, um spezifische industrielle Anforderungen zu erfüllen und sicherzustellen, dass die Targets in optimalem Zustand für den sofortigen Einsatz ankommen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen von Zinnoxid (SnO2) Sputtertargets?
A: Sie werden in erster Linie in Dünnschichtabscheidungsprozessen verwendet, einschließlich Elektronik, optische Beschichtungen und Sensorherstellung.

F: Welche Sputtering-Methoden sind mit diesem Target kompatibel?
A: Dieses Target ist für die Verwendung mit RF- und RF-R-Sputterverfahren optimiert.

F: Welchen Einfluss hat die Reinheit des Targets auf seine Leistung?
A: Ein Reinheitsgrad von ≥99% gewährleistet konsistente Sputterergebnisse und minimiert Verunreinigungen, die die Qualität und Leistung der Schichten beeinträchtigen könnten.

F: Kann das Target für verschiedene Herstellungsanforderungen angepasst werden?
A: Ja, das Zinnoxid (SnO2)-Sputter-Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann für spezifische Anwendungsanforderungen maßgeschneidert werden.

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung von Zinnoxid (SnO2)-Sputter-Targets?
A: Branchen wie Elektronik, Photovoltaik, Sensorik und Forschungslabors profitieren von der hohen Präzision und Qualität dieser Targets.