ST0193 Thuliumoxid (Tm2O3) Sputtering Target

Thuliumoxid (Tm2O3) Sputtering Target Beschreibung

Das Thuliumoxid (Tm2O3) Sputtering Target wurde für die präzise Abscheidung von Dünnschichten in elektronischen und optischen Anwendungen entwickelt. Mit einer chemischen Zusammensetzung von Tm₂O₃ und einer Reinheit von ≥99% gewährleistet es eine konsistente und reproduzierbare Sputtering-Leistung. Das Target ist in Form von Scheiben erhältlich oder kann auf spezifische Größen zugeschnitten werden, um verschiedene industrielle Anforderungen zu erfüllen. Aufgrund seines hohen Schmelzpunkts und seiner hohen Dichte ist es für harte Sputtering-Umgebungen geeignet und damit eine ausgezeichnete Wahl für Hochtemperaturprozesse und anspruchsvolle Anwendungen.

Thuliumoxid (Tm2O3) Sputtering Target Anwendungen

- Mikroelektronik: Ideal für die Herstellung von Dünnschichten in der Halbleiterfertigung.
- Optische Beschichtungen: Für die Abscheidung hochwertiger optischer Schichten in modernen photonischen Geräten.
- Energieanwendungen: Geeignet für Hochtemperaturbeschichtungen in Leistungs- und Energiegeräten.
- Forschung und Entwicklung: Einsatz in fortgeschrittenen Materialstudien und experimentellen Sputterprozessen.

Thuliumoxid (Tm2O3) Sputtertarget-Packung

Unsere Thuliumoxid-Sputtertargets werden sicher in vakuumversiegelten Behältern verpackt, um die Materialintegrität während der Lagerung und des Transports zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich Beutel- oder Fasskonfigurationen, sind verfügbar, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptvorteile der Verwendung von Thuliumoxid in Sputtertargets?
A: Thuliumoxid bietet eine außergewöhnliche Reinheit, eine hohe thermische Stabilität und eine hervorragende chemische Beständigkeit, wodurch es sich ideal für fortschrittliche Anwendungen zur Dünnschichtabscheidung eignet.

F: Kann die Form und Größe des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, unsere Thuliumoxid-Sputter-Targets sind in Standard-Scheibenform erhältlich oder können nach Ihren speziellen Anforderungen angefertigt werden.

F: In welchen Branchen werden Thuliumoxid-Sputtertargets üblicherweise verwendet?
A: Sie werden in großem Umfang in der Mikroelektronik, bei optischen Beschichtungen, im Energiesektor und in der Forschung eingesetzt, wo Präzision und Materialstabilität von entscheidender Bedeutung sind.

F: Wie wirkt sich der hohe Schmelzpunkt von Thuliumoxid auf den Sputterprozess aus?
A: Der hohe Schmelzpunkt sorgt dafür, dass das Targetmaterial während des Sputterns stabil bleibt, wodurch eine gleichmäßige Schichtabscheidung und eine verbesserte Prozesssicherheit gewährleistet werden.

F: Welche Qualitätssicherungsmaßnahmen werden für diese Sputtertargets durchgeführt?
A: Unsere Targets werden strengen Qualitätskontrollprotokollen unterzogen, einschließlich Reinheitsprüfung und Leistungstests, um sicherzustellen, dass sie durchgehend die hohen Standards erfüllen, die für fortschrittliche industrielle Anwendungen erforderlich sind.