ST0188 Strontium-Ruthenat (SrRuO3) Sputtertarget

Strontium-Ruthenat (SrRuO3) Sputtering Target Beschreibung

Das Strontium-Ruthenat (SrRuO3) Sputtering Target wurde für hohe Leistungen in Abscheidungssystemen entwickelt. Dieses unter strengen Qualitätskontrollen hergestellte Target bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Stabilität und gewährleistet eine hervorragende Dünnschichtabscheidung für moderne Mikroelektronik- und Forschungsanwendungen.

Strontium-Ruthenat (SrRuO3) Sputtering Target Anwendungen

- Mikroelektronik: Ideal für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten in Halbleitergeräten.
- Supraleitende Schaltungen: Ermöglicht die zuverlässige Abscheidung von supraleitenden Schichten.
- Dünnfilm-Beschichtungen: Sorgt für konsistente und einheitliche Beschichtungsprozesse.
- Akademische und industrielle Forschung: Erleichtert experimentelle Studien und fortschrittliche Materialentwicklung.

Strontium-Ruthenat (SrRuO3) Sputtertarget-Verpackung

Unsere Sputtertargets sind sicher verpackt, um die Produktintegrität bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind verfügbar, um Ihre spezifischen Handhabungs- und Versandanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget und wie wird es verwendet?
A: Ein Sputtering-Target ist eine Materialquelle, die in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen verwendet wird, bei denen die Atome ausgestoßen und auf Substraten abgeschieden werden, um dünne Schichten zu bilden.

F: Welche Vorteile bietet Strontiumruthenat (SrRuO3) bei Abscheidungsanwendungen?
A: Seine hohe Reinheit (≥99%) und gleichbleibende Zusammensetzung gewährleisten eine gleichmäßige Zerstäubung und stabile Dünnschichtbildung, was für Hochleistungsanwendungen entscheidend ist.

F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, neben den standardmäßigen Scheibenformen sind auch kundenspezifische Formen erhältlich, um spezifischen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.

F: Wie sollte das Sputtering-Target vor der Installation behandelt werden?
A: Es sollte mit Sorgfalt und unter Verwendung geeigneter Werkzeuge und Umgebungskontrollen gehandhabt werden, um Verunreinigungen und physische Schäden zu vermeiden.

F: In welchen Branchen wird das Strontiumruthenat (SrRuO3) Sputtering Target am häufigsten verwendet?
A: Es wird häufig in der Mikroelektronik, in supraleitenden Schaltkreisen, in Dünnfilmbeschichtungen und in fortgeschrittenen Forschungsanwendungen eingesetzt.