ST0178 Neodym-Oxid (Nd2O3) Sputtering Target

Neodym-Oxid (Nd2O3) Sputtering Target Beschreibung

Das Neodymoxid (Nd₂O₃) Sputtertarget wird mit einer Mindestreinheit von 99 % hergestellt und ist für eine hervorragende Leistung in fortschrittlichen industriellen Anwendungen ausgelegt. Dieses Target wird mit modernsten Fertigungstechniken hergestellt und bietet zuverlässige Sputtereigenschaften durch RF-, RF-R- und DC-Methoden. Sein hoher Schmelzpunkt und seine einzigartigen Bindungsoptionen gewährleisten eine ausgezeichnete Stabilität und Haltbarkeit, was es zu einer idealen Wahl für die Herstellung mikroelektronischer Geräte, die Dünnschichtabscheidung und die Oberflächentechnik macht.

Neodymoxid (Nd2O3) Sputtering Target Anwendungen

- Herstellung von integrierten Schaltkreisen: Ermöglicht die Abscheidung hochwertiger Nd₂O₃-Schichten in modernen mikroelektronischen Schaltungen.
- Dünnschicht-Beschichtungen: Werden in großem Umfang für die Herstellung von dekorativen, schützenden und optischen Beschichtungen verwendet.
- Optische Geräte: Geeignet für die Herstellung leistungsstarker optischer Komponenten und Lasersysteme.
- Wissenschaftliche Forschung: Wird in der fortgeschrittenen Materialforschung und in experimentellen Sputtering-Anlagen eingesetzt.

Neodymoxid (Nd2O3) Sputtering Target Packing

Unser Neodymoxid (Nd₂O₃) Sputtering Target wird mit äußerster Sorgfalt verpackt, um seine hohe Reinheit und Leistung zu erhalten.
Die vakuumversiegelte Verpackung ist mit anpassbaren Optionen erhältlich, um spezifische Kunden- und Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Sputtering-Methoden sind mit diesem Target kompatibel?
A: Das Target unterstützt RF-, RF-R- und DC-Sputterverfahren.

F: Was sind die Hauptanwendungen des Nd₂O₃-Sputtertargets?
A: Es wird häufig in der Mikroelektronik, bei Dünnfilmbeschichtungen, optischen Geräten und in der wissenschaftlichen Forschung eingesetzt.

F: Wie wird die hohe Reinheit des Targets gewährleistet?
A: Hochentwickelte Herstellungsverfahren und strenge Qualitätskontrollen gewährleisten einen Reinheitsgrad von ≥99%.

F: Kann das Target in Form und Größe angepasst werden?
A: Ja, die Targets können als Scheiben geliefert oder an spezifische Anforderungen angepasst werden.

F: Warum ist ein hoher Schmelzpunkt für dieses Sputtertarget wichtig?
A: Der hohe Schmelzpunkt von 2233℃ gewährleistet eine verbesserte Stabilität und Haltbarkeit bei Hochtemperatur-Sputteranwendungen.