Molybdänoxid (MoO₃) Sputtering Target Beschreibung
Das Molybdänoxid (MoO₃) Sputtertarget wurde für Hochleistungs-Sputterprozesse in kritischen industriellen Anwendungen entwickelt. Dieses nach anspruchsvollen Standards gefertigte Target bietet eine hervorragende Konsistenz und Reinheit für die moderne Dünnschichtabscheidung. Seine robusten Eigenschaften machen es zur idealen Wahl für die Halbleiterherstellung, die Displayproduktion und verschiedene Beschichtungstechnologien.
Molybdänoxid (MoO₃) Sputtering Target Anwendungen
- Herstellung von Halbleitern: Liefert gleichmäßige dünne Schichten, die für integrierte Schaltungen und mikroelektronische Geräte unerlässlich sind.
- Display-Technologien: Für die Abscheidung transparenter, leitfähiger Schichten und anderer Display-Komponenten.
- Oberflächenbeschichtungen: Ideal für die Herstellung korrosionsbeständiger und verschleißfester Beschichtungen in industriellen Anwendungen.
- Forschung und Entwicklung: Wird in Versuchsaufbauten für fortgeschrittene Materialstudien und neuartige Beschichtungsverfahren verwendet.
Molybdänoxid (MoO₃) Sputtering Target Packing
Unser Molybdänoxid (MoO₃) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine Qualität und Leistung zu erhalten.
Die vakuumversiegelte Verpackung gewährleistet den Schutz während der Lagerung und des Transports. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind auf Anfrage erhältlich.
Häufig gestellte Fragen
F: Was ist ein Sputtering-Target?
A: Ein Sputtertarget ist eine Materialquelle, die in Sputterprozessen zur Abscheidung dünner Schichten auf Substraten verwendet wird, indem das Target mit energiereichen Teilchen beschossen wird.
F: Warum wird MoO₃ in Sputtertargets verwendet?
A: MoO₃ zeichnet sich durch hohe Reinheit, chemische Stabilität und hervorragende Sputterleistung aus und ist daher ideal für präzise Beschichtungsanwendungen.
F: Was bedeutet "RF-Sputtern"?
A: RF-Sputtern bezieht sich auf die Verwendung von Hochfrequenzenergie zur Erzeugung eines Plasmas für den Sputterprozess, das für isolierende oder schlecht leitende Targets geeignet ist.
F: Kann das Target individuell angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Form von Scheiben oder maßgeschneiderten Formen für spezifische industrielle Anforderungen erhältlich.
F: Wie wirkt sich die Dichte von MoO₃ auf seine Leistung aus?
A: Eine Dichte von 4,69 g/cm³ gewährleistet eine gleichmäßige Sputterrate und eine optimale Filmqualität und trägt zu zuverlässigen Versuchs- und Produktionsergebnissen bei.
