ST0176 Sputtertarget aus Manganoxid (MnO)

Manganoxid (MnO) Sputtering Target Beschreibung

Das Manganoxid (MnO) Sputtering Target wurde für Präzision und Langlebigkeit in anspruchsvollen industriellen Umgebungen entwickelt. Dieses Target wird unter strengen Qualitätskontrollen hergestellt und liefert eine gleichmäßige Leistung für Dünnschichtabscheidungs- und Sputterprozesse. Es wurde speziell für Anwendungen in der modernen Elektronik, für optische Beschichtungen und für die wissenschaftliche Forschung entwickelt und gewährleistet optimale Leistung und Langlebigkeit.

Manganoxid (MnO) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung gleichmäßiger Beschichtungen in der Halbleiter- und Elektronikindustrie.
- Optische Beschichtungen: Werden bei der Herstellung von optischen Hochleistungskomponenten verwendet.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für experimentelle Sputtering-Prozesse in Labors.
- Industrielle Elektronik: Verbessert die Leistung von Geräten durch zuverlässige und präzise Dünnschichtanwendungen.

Manganoxid (MnO) Sputtering Target Packing

Unser Manganoxid (MnO) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine Qualität bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Es stehen Standardverpackungsoptionen zur Verfügung, aber auch anpassbare Lösungen, die den spezifischen Kundenanforderungen entsprechen.

Häufig gestellte Fragen

F: Wie hoch ist die erwartete Lebensdauer des Sputtertargets?
A: Die Lebensdauer hängt von den Betriebsbedingungen und Nutzungsmustern ab, aber unser hochwertiges Target ist für eine lange Leistung in kontrollierten Umgebungen ausgelegt.

F: Sind kundenspezifische Formen für das Sputtertarget erhältlich?
A: Ja, das Target ist in Form von Scheiben oder als Sonderanfertigung nach Kundenspezifikation erhältlich.

F: In welchen Branchen werden MnO-Sputtertargets am häufigsten verwendet?
A: Sie werden vor allem in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, in der Industrieelektronik und in verschiedenen Forschungsanwendungen eingesetzt.

F: Wie funktioniert das Sputtering-Verfahren mit MnO-Targets?
A: Beim Sputtern wird das Target mit Ionen beschossen, um Material auszustoßen, das sich dann als dünner Film auf einem Substrat ablagert. Die hohe Reinheit und Einheitlichkeit unseres MnO-Targets gewährleisten eine präzise und effektive Filmbildung.

F: Kann die Verpackung für Großaufträge angepasst werden?
A: Ja, wir bieten anpassbare Verpackungsoptionen an, um den sicheren und effizienten Transport großer Mengen je nach Kundenbedarf zu gewährleisten.