ST0163 Lanthanoxid (La2O3) Sputtertarget

Lanthanoxid (La2O3) Sputtertarget Beschreibung

Das Lanthanoxid (La2O3) Sputtertarget wurde für Präzision und hohe Leistung bei fortschrittlichen Sputteranwendungen entwickelt. Hergestellt mit einer Reinheit von ≥99%, gewährleistet dieses Target minimale Kontamination und außergewöhnliche Konsistenz bei Abscheidungsprozessen. Sein robustes Design, das in standardmäßigen Scheibenformen oder als kundenspezifische Lösungen erhältlich ist, erfüllt die vielfältigen Anforderungen der Industrie, von der Halbleiterherstellung bis hin zu Dünnschichtbeschichtungen. Die ausgezeichnete thermische Stabilität und die einzigartigen physikalischen Eigenschaften des Materials machen es zu einem unverzichtbaren Bestandteil sowohl in der Forschung als auch in der Industrie.

Lanthanoxid (La2O3) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung hochwertiger optischer Beschichtungen und Halbleiterschichten.
- Elektronik: Einsatz bei der Herstellung verschiedener elektronischer Komponenten zur Leistungssteigerung.
- Hochleistungskeramik: Unterstützt die Herstellung von feuerfesten und hochtemperaturbeständigen Keramikmaterialien.
- Forschung und Entwicklung: Bietet zuverlässige Leistung für experimentelles Sputtern in akademischen und industriellen Labors.
- Oberflächentechnik: Wird bei der Entwicklung von Schutzschichten und funktionalen Oberflächen eingesetzt.

Lanthanoxid (La2O3) Sputtertarget-Packung

Unsere Lanthanoxid (La2O3) Sputtertargets werden sorgfältig verpackt, um ihre hohe Reinheit und strukturelle Integrität zu erhalten. Zu den Optionen gehören feuchtigkeitsbeständige und vakuumversiegelte Verpackungen, die auf die Anforderungen des Kunden zugeschnitten sind und eine sichere Lagerung und einen sicheren Transport gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Mit welchen Sputtering-Methoden ist dieses La₂O₃-Target kompatibel?
A: Es ist für RF-, RF-R- und DC-Sputterverfahren geeignet und bietet somit Flexibilität für verschiedene Abscheidetechniken.

F: Warum ist ein hoher Reinheitsgrad (≥99%) für ein Sputtertarget wichtig?
A: Ein hoher Reinheitsgrad minimiert das Kontaminationsrisiko während der Abscheidung und stellt sicher, dass die erzeugten dünnen Schichten optimale physikalische und chemische Eigenschaften aufweisen.

F: Kann ich das Target in einer kundenspezifischen Form oder Größe erhalten?
A: Ja, neben den standardmäßigen Scheibenformen können unsere Targets auch kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Branchen verwenden typischerweise Lanthanoxid-Sputtertargets?
A: Sie werden häufig in der Halbleiterherstellung, bei der Produktion optischer Beschichtungen, in der Hochleistungskeramik und in Forschungslabors eingesetzt.

F: Wie stellen Sie sicher, dass die Targets während des Versands intakt bleiben?
A: Unsere Targets werden feuchtigkeitsbeständig und vakuumversiegelt verpackt, um sie vor Umwelteinflüssen und mechanischen Schäden während des Transports zu schützen.