Lanthan-Kalzium-Manganat (La0.67Ca0.33MnO3) Sputtertarget Beschreibung
Das Lanthan-Calcium-Manganat (La0.67Ca0.33MnO3) Sputtertarget wurde für fortschrittliche Anwendungen zur Dünnschichtabscheidung entwickelt. Hergestellt aus einer präzisen Mischung von La2O3, Mn3O4 und CaO, gewährleistet dieses Target eine gleichbleibende Leistung unter anspruchsvollen Sputterbedingungen. Seine hohe Reinheit und kontrollierte Mikrostruktur ermöglichen eine zuverlässige Abscheidung sowohl in der Forschung als auch im industriellen Umfeld. Es wurde für die Kompatibilität mit RF-, RF-R- und DC-Sputtersystemen entwickelt und liefert eine gleichmäßige Schichtqualität und hervorragende Hafteigenschaften.
Lanthan-Kalzium-Manganat (La0.67Ca0.33MnO3) Sputtertarget Anwendungen
- Herstellung von Halbleiterbauelementen: Ideal für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten in elektronischen Bauteilen.
- Optische Beschichtungen: Für die Herstellung präziser optischer Filter, Spiegel und anderer Komponenten.
- Display-Technologien: Unterstützt die Abscheidungsprozesse bei der Herstellung von LCD- und OLED-Panels.
- Fortschrittliche Forschung: Bietet konstante Leistung für materialwissenschaftliche Studien und experimentelle Anwendungen.
- Industrielle Beschichtungen: Bietet eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit für Schutz- und Funktionsbeschichtungen in verschiedenen Branchen.
Lanthan-Kalzium-Manganat (La0.67Ca0.33MnO3) Sputtertarget-Verpackung
Unsere Sputtertargets werden mit äußerster Sorgfalt verpackt, um sicherzustellen, dass sie in einwandfreiem Zustand ankommen. Sie sind im Standard-Scheibenformat oder als kundenspezifische Konfigurationen erhältlich und werden unter kontrollierten Bedingungen versandt, um ihre hohe Qualität während des Transports zu erhalten.
Häufig gestellte Fragen
F: Welche Sputtertechniken sind mit diesem Target kompatibel?
A: Dieses Target ist mit RF-, RF-R- und DC-Sputtersystemen kompatibel und somit vielseitig für verschiedene Dünnschichtabscheidungsprozesse einsetzbar.
F: Kann ich eine kundenspezifische Form oder Größe für das Sputtertarget anfordern?
A: Ja, das Produkt ist in Form von Standardscheiben erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.
F: Welche Vorteile bietet die Zusammensetzung von La2O3 / Mn3O4 / CaO für den Sputterprozess?
A: Die präzise Zusammensetzung gewährleistet eine hohe Reinheit und eine kontrollierte Mikrostruktur, was zu einer gleichbleibenden Schichtqualität, stabilen Ablagerungsbedingungen und verbesserter Leistung führt.
F: In welchen Branchen werden typischerweise Lanthan-Kalzium-Manganat-Sputtertargets verwendet?
A: Sie werden häufig in der Halbleiterherstellung, bei der Produktion optischer Beschichtungen, in der Displaytechnologie und in fortschrittlichen Forschungsanwendungen eingesetzt.
F: Inwiefern ist der hohe Schmelzpunkt von ~1400-1500℃ für Sputtering-Anwendungen von Vorteil?
A: Ein hoher Schmelzpunkt gewährleistet eine ausgezeichnete thermische Stabilität während des Sputterns, so dass das Target ohne Leistungseinbußen mit hoher Leistung betrieben werden kann.
