ST0155 Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtering Target

Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtering Target Beschreibung

Das Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtertarget wurde entwickelt, um eine außergewöhnliche Leistung in einer Vielzahl von Abscheidungsprozessen zu bieten. Hergestellt mit einer hochreinen Zusammensetzung aus In2O3/ZnO, liefert dieses Target konsistente und zuverlässige Ergebnisse sowohl in HF- als auch in DC-Sputtersystemen für Dünnschichtanwendungen. Seine Verfügbarkeit in kundenspezifischen Formen, einschließlich Scheiben oder speziell gestalteten Formen, erfüllt die speziellen Anforderungen der Optoelektronik, Displaytechnik und Halbleiterindustrie.

Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung hochwertiger transparenter leitfähiger Beschichtungen, die in Displays und Touchscreens verwendet werden.
- Optoelektronik: Unverzichtbar für die Herstellung von LED-Panels, Flachbildschirmen und intelligenten Geräten.
- Halbleitergeräte: Bietet eine hervorragende Leistung bei der Herstellung energieeffizienter elektronischer Komponenten.
- Photovoltaik: Verbessert die Effizienz und Haltbarkeit von Solarzellen durch präzises Auftragen von Dünnschichten.
- Funktionelle Beschichtungen: Hervorragende elektrische und optische Eigenschaften für die Herstellung von Präzisionsgeräten.

Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtering Target Packing

Unser Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtering Target ist sicher verpackt, um seine hohe Reinheit und Leistung zu erhalten. Es wird in einer feuchtigkeitsdichten und statisch kontrollierten Verpackung geliefert, um einen optimalen Zustand während Lagerung und Transport zu gewährleisten. Für spezielle Anforderungen sind auch kundenspezifische Verpackungsoptionen erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist die typische Anwendung für das Indium-Zink-Oxid (IZO) Sputtering Target?
A: Es wird üblicherweise für die Abscheidung von Dünnschichten in optoelektronischen Geräten, Halbleiterkomponenten und Displaytechnologien verwendet.

F: Kann das Sputtering-Target individuell angepasst werden?
A: Ja, das Target kann in kundenspezifischen Formen und Größen hergestellt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Sputtering-Methoden sind mit diesem Target kompatibel?
A: Das Target ist sowohl für RF- als auch für DC-Sputterverfahren ausgelegt, was eine vielseitige Kompatibilität mit verschiedenen Abscheidungssystemen gewährleistet.

F: Wie ist das Sputtertarget zusammengesetzt?
A: Das Target besteht aus einer hochreinen Mischung aus In2O3 und ZnO, die mit einer Reinheit von ≥99 % eine außergewöhnliche Leistung gewährleistet.

F: Wie wird das Target verpackt, um seine Qualität zu erhalten?
A: Es wird in feuchtigkeitsbeständigen und statisch kontrollierten Behältern verpackt, mit Optionen für weitere Anpassungen, um die Qualität bei Lagerung und Transport zu erhalten.