(Eingestellt) ST0148 Gadoliniumoxid (Gd2O3) Sputtering Target

Gadoliniumoxid (Gd2O3) Sputtering Target Beschreibung

Das Gadoliniumoxid (Gd2O3)-Sputtertarget wurde für die Präzisions-Dünnschichtabscheidung in der High-Tech-Industrie entwickelt. Dieses Target wird mit Hilfe fortschrittlicher Verarbeitungstechniken hergestellt und weist eine ausgezeichnete strukturelle Integrität und thermische Stabilität auf, die eine gleichbleibende Leistung sowohl bei HF- als auch bei DC-Sputterprozessen gewährleistet. Es eignet sich ideal für die Herstellung hochwertiger elektronischer Geräte, optischer Beschichtungen und anderer Anwendungen, bei denen Zuverlässigkeit und Gleichmäßigkeit entscheidend sind. Mit seiner ultrahohen Reinheit und seinen außergewöhnlichen Materialeigenschaften ist dieses Target eine robuste Lösung für die fortschrittliche Halbleiterfertigung und für modernste Forschungsumgebungen.

Gadoliniumoxid (Gd2O3) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und optische Beschichtungsanwendungen.
- Mikroelektronik: Einsatz bei der Herstellung von Sensoren, integrierten Schaltkreisen und Speichergeräten.
- Forschung: Weit verbreitet in der akademischen und industriellen Forschung zur Erforschung fortschrittlicher Materialabscheidungstechniken.
- Photonik: Anwendung bei der Herstellung von Laserkomponenten und Photodetektoren.

Gadoliniumoxid (Gd2O3) Sputtering Target Packing

Unsere Gadoliniumoxid (Gd2O3) Sputtertargets werden mit größter Sorgfalt verarbeitet und verpackt, um ihre Qualität und Leistung zu erhalten. Sie werden in einer schützenden, antistatischen, vakuumversiegelten Verpackung geliefert. Die Targets sind in Scheibenform oder in kundenspezifischer Form nach Kundenwunsch erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Gd2O3-Sputtertargets?
A: Es wird in erster Linie für die Abscheidung dünner Schichten in Halbleiterbauelementen, optischen Beschichtungen und in der Mikroelektronik sowie für Forschungsanwendungen verwendet.

F: Welche Sputtertechniken sind mit diesem Target kompatibel?
A: Sowohl RF- als auch DC-Sputterverfahren sind bei Verwendung des Gadoliniumoxid-Targets effektiv.

F: Welche Vorteile bietet das hochreine Gadoliniumoxid bei Sputterverfahren?
A: Der hohe Reinheitsgrad gewährleistet eine gleichbleibende Schichtqualität, hervorragende Haftung und ausgezeichnete thermische Stabilität, was bei Präzisionsbeschichtungsanwendungen von entscheidender Bedeutung ist.

F: Kann das Target an spezifische Geräteanforderungen angepasst werden?
A: Ja, das Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann kundenspezifisch angefertigt werden, um spezielle Größen- und Designspezifikationen zu erfüllen.

F: Wie stellen Sie die Leistung und Haltbarkeit des Sputtertargets sicher?
A: Unsere strengen Qualitätskontrollmaßnahmen und hochmodernen Herstellungsverfahren garantieren eine hohe Leistung, Gleichmäßigkeit und Haltbarkeit jedes produzierten Targets.