Chromoxid (Cr2O3) Sputtering Target Beschreibung
Das Chromoxid (Cr2O3)-Sputtertarget wurde unter Verwendung modernster Fertigungstechniken entwickelt, um außergewöhnliche Gleichmäßigkeit, hohe Dichte und hervorragende Haltbarkeit in anspruchsvollen Beschichtungsumgebungen zu gewährleisten. Dieses Target wurde speziell für das RF- und RF-R-Sputtern entwickelt und garantiert optimale Leistung bei minimalen Verunreinigungen, was es zu einer zuverlässigen Wahl für hochpräzise Anwendungen macht.
Chromoxid (Cr2O3) Sputtering Target Anwendungen
- Halbleiterherstellung: Ermöglicht die präzise Abscheidung von Dünnschichten für integrierte Schaltungen und mikroelektronische Geräte.
- Optische Beschichtungen: Ideal für die Abscheidung haltbarer, hochleistungsfähiger Beschichtungen in optischen Komponenten.
- Solarzellen: Erleichtert die Bildung effizienter, stabiler Schichten für photovoltaische Anwendungen.
- Hochleistungskeramik: Wird in verschiedenen keramischen Verarbeitungstechniken verwendet, die hochreine Oxidtargets erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Unterstützt experimentelle Abscheidungsprozesse für innovative Materialanwendungen.
Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget-Verpackung
Unsere Chromoxid (Cr2O3) Sputtering Targets werden sorgfältig verpackt, um ihre Unversehrtheit während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten. Die Produkte werden in der Regel vakuumversiegelt und gemäß den Kundenspezifikationen verpackt, um eine sichere Lieferung zu gewährleisten und die Materialqualität zu erhalten.
Häufig gestellte Fragen
F: Was bedeutet RF-Sputtering?
A: RF-Sputtern bezieht sich auf die Verwendung von Hochfrequenzenergie zur Erzeugung eines Plasmas, das das Zielmaterial für die Abscheidung von Dünnschichten ablöst, wodurch es für isolierende und dielektrische Materialien geeignet ist.
F: Wie wichtig ist die Reinheit eines Sputtertargets?
A: Ein hoher Reinheitsgrad (≥99 %) ist entscheidend, da er die Verunreinigung der abgeschiedenen Schichten minimiert und so die Leistung und Zuverlässigkeit des Endprodukts gewährleistet.
F: Kann die Form des Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, das Produkt ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann entsprechend den spezifischen Prozessanforderungen kundenspezifisch angefertigt werden.
F: Welche Branchen profitieren von der Verwendung von Chromoxid-Sputtertargets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, Optik, Solarenergie und Hochleistungskeramik sowie Forschung und Entwicklung profitieren von der hohen Leistungsfähigkeit der Chromoxid-Sputtertargets.
F: Welche Lagerungsbedingungen werden für diese Sputtertargets empfohlen?
A: Es wird empfohlen, die Targets in einer kontrollierten Umgebung zu lagern, die frei von Feuchtigkeit und Verunreinigungen ist, in der Regel in einer vakuumversiegelten Verpackung, um ihren einwandfreien Zustand zu erhalten.
