ST0129 Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtering Target

Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtering Target Beschreibung

Das Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtering Target wurde entwickelt, um eine hervorragende Leistung bei Präzisionssputterprozessen zu bieten. Hergestellt unter strengen Qualitätskontrollen, bietet dieses Target eine konsistente und zuverlässige Abscheidung für High-Tech-Anwendungen. Seine hohe Reinheit und robuste Leistung machen es ideal für kritische Anwendungen in Halbleitern, Displays und modernen Beschichtungssystemen.

Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtering Target Anwendungen

- Herstellung von Halbleitern: Unverzichtbar für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten in elektronischen Geräten.
- Display-Technologien: Ideal für die Abscheidung transparenter, leitfähiger Schichten in modernen Displays.
- Beschichtungssysteme: Für die Abscheidung von Schutz- und Funktionsschichten in der Optik und Luft- und Raumfahrt.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für Versuchsaufbauten, die leistungsstarke Sputtertargets erfordern.

Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget-Packung

Das Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtering Target ist sorgfältig verpackt, um eine optimale Qualität während der Lagerung und des Transports zu gewährleisten.
Verpackung: Vakuumversiegelte Verpackungen, die auf die Anforderungen des Kunden zugeschnitten sind, wobei Standardgrößen auf Anfrage erhältlich sind.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtering-Target ist ein Material, das in Sputtering-Beschichtungsprozessen verwendet wird, um dünne Schichten auf verschiedenen Substraten in Branchen wie der Halbleiterherstellung und der Displaytechnologie zu bilden.

F: Was bedeutet RF-R im Zusammenhang mit Sputtertargets?
A: RF-R bezieht sich auf radiofrequentes reaktives Sputtern, ein Verfahren, bei dem Hochfrequenzenergie in einer reaktiven Gasumgebung eingesetzt wird, um eine präzise Schichtabscheidung zu erreichen.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertargets sichergestellt?
A: Die hohe Reinheit wird durch strenge Qualitätskontrollmaßnahmen und fortschrittliche Fertigungstechniken gewährleistet, die darauf ausgelegt sind, Verunreinigungen während des gesamten Produktionsprozesses zu minimieren.

F: Kann die Größe der Sputtering-Targets angepasst werden?
A: Ja, die Sputtertargets aus Aluminiumoxid (Al2O3) sind in kundenspezifischen Größen erhältlich, um spezifische Kundenanforderungen und Anwendungsbedürfnisse zu erfüllen.

F: Welche Branchen profitieren am meisten von der Verwendung von Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertargets?
A: Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Displaytechnologie, Beschichtungssysteme sowie Forschung und Entwicklung profitieren erheblich von der überlegenen Leistung dieser Sputtertargets.