(Eingestellt) ST0126 Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu) Sputtering Target

Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu) Sputtering Target Beschreibung

Das Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu) Sputtering Target wird mit dem Schwerpunkt auf einem hohen Reinheitsgrad (≥99%) hergestellt und bietet vielseitige, maßgeschneiderte Formen. Dieses Target wurde mit Hilfe raffinierter Herstellungsverfahren entwickelt und gewährleistet eine gleichbleibende Leistung, die für eine zuverlässige Dünnschichtabscheidung bei der Halbleiterherstellung, optischen Beschichtungen und fortschrittlichen Oberflächenbehandlungen unerlässlich ist. Durch sein robustes Design eignet es sich gut für die Integration in Hightech-Sputteranlagen und gewährleistet einen optimalen Materialtransfer und eine gleichmäßige Schichtbildung während des Abscheidungsprozesses.

Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu) Sputtering Target Anwendungen

- Mikroelektronik: Ideal für die Dünnschichtabscheidung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen.
- Optische Beschichtungen: Liefert gleichmäßige Schichten für Displays, Sensoren und andere optische Präzisionskomponenten.
- Solarenergie: Wird bei der Herstellung von hocheffizienten Photovoltaikzellen verwendet.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für Versuchsaufbauten und Prototyping in der modernen Materialforschung.

Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu) Sputtering Target Packing

Unsere Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu) Sputtering Targets werden sorgfältig verpackt, um die Produktintegrität während der Lagerung und des Transports zu erhalten.
- Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind je nach Kundenspezifikation erhältlich.
- Die Standardverpackung umfasst sichere, antistatische Behälter für einzelne Scheiben oder Großbestellungen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein Materialblock, der im Sputterverfahren verwendet wird, um dünne Schichten auf Substrate in der Mikroelektronik, Optik und anderen Branchen aufzubringen.

F: Welche Branchen verwenden typischerweise Zr/Cu-Sputtertargets?
A: Zr/Cu-Sputtertargets werden üblicherweise in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, in der Solarzellenproduktion und in der Forschung eingesetzt.

F: Wie wirkt sich die Zusammensetzung des Targets auf die Sputtering-Leistung aus?
A: Die Zusammensetzung bestimmt die Reinheit und Konsistenz der abgeschiedenen Schicht und wirkt sich direkt auf die elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften des Endprodukts aus.

F: Kann das Target für bestimmte Abmessungen oder Formen kundenspezifisch angefertigt werden?
A: Ja, das Zirkonium-Kupfer (Zr/Cu)-Sputter-Target ist in Form von Scheiben oder kundenspezifischen Formen erhältlich, um verschiedene Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Maßnahmen zur Qualitätskontrolle werden bei der Herstellung durchgeführt?
A: Unsere Produkte werden strengen Qualitätskontrolltests unterzogen, einschließlich der Überprüfung der Reinheit und der Maßgenauigkeit, um optimale Leistung und Zuverlässigkeit für jedes Target zu gewährleisten.