ST0118 Vanadium-Aluminium (V/Al) Sputtering Target

Vanadium-Aluminium (V/Al) Sputtering Target Beschreibung

Das Vanadium-Aluminium (V/Al) Sputtering Target wurde für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt und bietet außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und Leistung. Dieses mit hoher Reinheit (≥99%) hergestellte Target ist ideal für Anwendungen in der Halbleiter-, Display- und Mikroelektronik, bei denen Präzision und Haltbarkeit entscheidend sind. Durch den Einsatz modernster Produktionstechniken gewährleisten unsere Targets minimale Verunreinigungen und eine hervorragende Filmqualität auch unter harten industriellen Bedingungen.

Vanadium-Aluminium (V/Al) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Gewährleistet eine gleichmäßige und präzise Beschichtung für die Herstellung integrierter Schaltungen.

- Halbleiterherstellung: Liefert zuverlässige, widerstandsarme Schichten für Hochleistungskomponenten.

- Optische Beschichtungen: Verbessert das Reflexionsvermögen und die Haltbarkeit bei modernen optischen Anwendungen.

- Herstellung von Solarzellen: Verbessert den Wirkungsgrad durch den Einsatz hochwertiger Schichten.

- Kundenspezifische Anwendungen: Erfüllt spezielle Anforderungen für einzigartige industrielle Prozesse.

Vanadium-Aluminium (V/Al) Sputtering Target Packing

Unser Vanadium-Aluminium (V/Al) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine Unversehrtheit bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Zu den Optionen gehören vakuumversiegelte Verpackungen mit flexiblen Gewichtskonfigurationen, um kundenspezifischen Bestellungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

F: Wie ist die Zusammensetzung des Sputtertargets?
A: Das Sputtertarget besteht aus einer Vanadium-Aluminium-Legierung (V/Al) mit einer Reinheit von ≥99%.

F: Kann das Target nach Maß gefertigt werden?
A: Ja, die Formen können auf der Grundlage Ihrer spezifischen Anforderungen angepasst werden, einschließlich Standardscheiben oder andere maßgeschneiderte Formen.

F: Welche Art der Bindung wird für das Sputtertarget verwendet?
A: Das Target verwendet eine Indium- und Elastomerbindung, um die Stabilität während des Sputterprozesses zu gewährleisten.

F: Für welche Anwendungen kann das Vanadium-Aluminium-Sputtering-Target verwendet werden?
A: Es findet breite Anwendung bei der Dünnschichtabscheidung, der Halbleiterherstellung, optischen Beschichtungen und anderen spezialisierten industriellen Verfahren.

F: Wie wirkt sich der hohe Reinheitsgrad des Targets auf seine Leistung aus?
A: Der hohe Reinheitsgrad (≥99%) garantiert eine hervorragende Schichtqualität mit minimaler Verunreinigung und gewährleistet eine zuverlässige und gleichbleibende Leistung bei fortschrittlichen Anwendungen.