Eingestellt (Eingestellt) ST0113 Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target

Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target Beschreibung

Das Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target wird aus hochreinen (≥99%) Materialien hergestellt, um außergewöhnliche Leistungen bei der Dünnschichtabscheidung zu erzielen. Seine anpassbaren Formen, die als Scheiben oder maßgeschneiderte Konfigurationen erhältlich sind, machen es ideal für eine breite Palette von Sputtering-Anwendungen. Entwickelt mit fortschrittlichen Bonding-Techniken unter Verwendung von Indium und Elastomer, gewährleistet dieses Target eine robuste Haftung und einen effektiven Energietransfer während des Sputtering-Prozesses.

Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Unverzichtbar für die Abscheidung von Dünnschichten, die in elektronischen Schaltungen und integrierten Geräten verwendet werden.
- Flachbildschirme: Bietet zuverlässige Leistung bei der Herstellung von Display-Komponenten.
- Optische Beschichtungen: Werden bei der Herstellung von Präzisionsbeschichtungen für Linsen und Spiegel verwendet.
- Solarzellen: Verbessert die Effizienz von Photovoltaikgeräten durch hochwertige Beschichtungen.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten, die kundenspezifische Formen und Formulierungen erfordern.

Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target Packing

Unser Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine Unversehrtheit bei Lagerung und Transport zu gewährleisten. Die Produkte sind in kundenspezifischen Verpackungslösungen erhältlich, einschließlich vakuumversiegelter Optionen, um sicherzustellen, dass das Target in einwandfreiem Zustand ankommt und sofort für den Einsatz in Ihren Sputtering-Systemen bereit ist.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen für das Titan-Aluminium (Ti/Al) Sputtering Target?
A: Es wird hauptsächlich für die Abscheidung von Dünnschichten bei der Halbleiterherstellung, für Flachbildschirme, optische Beschichtungen und Solarzellen verwendet.

F: Wie kann ich ein maßgeschneidertes Sputtertarget erhalten?
A: Kundenspezifische Formen und Größen können durch Kontaktaufnahme mit unserem Support-Team unter Angabe Ihrer spezifischen Anforderungen vereinbart werden.

F: Was bedeutet der Reinheitsgrad von ≥99% für dieses Produkt?
A: Der Reinheitsgrad stellt sicher, dass das Targetmaterial hohe Standards für die chemische Zusammensetzung erfüllt, was für eine gleichbleibende Sputterleistung entscheidend ist.

F: Kann dieses Target mit verschiedenen Sputtersystemen verwendet werden?
A: Ja, es werden zwar keine spezifischen Sputterparameter angegeben, aber dieses Target ist für verschiedene Sputtertechniken ausgelegt; bitte prüfen Sie die Kompatibilität mit Ihrem System.