ST0085 Kupfer-Kobalt (Cu/Co) Sputtering Target

Kupfer-Kobalt (Cu/Co) Sputtering Target Beschreibung

Das Kupfer-Kobalt (Cu/Co) Sputtertarget wurde für die effiziente Sputterabscheidung in einer Vielzahl von industriellen Hightech-Anwendungen entwickelt. Dieses Target wird mit einer Mindestreinheit von ≥99% hergestellt und bietet eine gleichbleibende Leistung und Haltbarkeit bei der Dünnfilmbeschichtung und Halbleiterverarbeitung. Seine einzigartige Zusammensetzung gewährleistet eine hervorragende Leitfähigkeit und Haftung und macht es zu einer zuverlässigen Wahl für fortschrittliche Forschungs- und Produktionsumgebungen. Die Option für kundenspezifische Formen ermöglicht darüber hinaus maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Fertigungsherausforderungen.

Kupfer-Kobalt (Cu/Co) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Ideal für die Abscheidung hochwertiger leitfähiger Dünnschichten bei der Herstellung von Mikroelektronik.
- Elektronische Beschichtungen: Verbessert die Leistung bei der Herstellung von leitenden Schichten für verschiedene Geräte.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für experimentelle Abscheidungsprozesse in der modernen materialwissenschaftlichen Forschung.
- Optische und reflektierende Beschichtungen: Für die Herstellung von reflektierenden Schichten mit verbesserter Haftung und Haltbarkeit.
- Kundenspezifische industrielle Anwendungen: Geeignet für spezielle Beschichtungsprozesse in neuen Technologien.

Kupfer-Kobalt (Cu/Co) Sputtering Target Packing

Das Kupfer-Kobalt-Sputtering-Target ist sicher verpackt, um seine Unversehrtheit während des Transports und der Lagerung zu gewährleisten. Jede Einheit wird sorgfältig in einer Schutzverpackung versiegelt. Auf Anfrage sind auch kundenspezifische Verpackungslösungen erhältlich, um spezifische Logistikanforderungen zu erfüllen.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Sputtering-Systeme sind mit dem Kupfer-Kobalt-Sputtering-Target kompatibel?
A: Das Kupfer-Kobalt-Sputter-Target ist so konzipiert, dass es vielseitig einsetzbar ist und für die Verwendung in verschiedenen Sputtersystemen, einschließlich Gleichstrom- und HF-Sputterverfahren, angepasst werden kann.

F: Was sind die wichtigsten Vorteile der Verwendung eines Kupfer-Kobalt-Sputtertargets?
A: Dieses Target bietet eine hervorragende Leitfähigkeit und Haftung, die eine hochwertige Dünnschichtabscheidung und eine verbesserte Leistung in fortschrittlichen elektronischen Anwendungen gewährleisten.

F: Sind die Formen der Sputtertargets anpassbar?
A: Ja, die Targets sind in standardmäßigen Scheibenformen erhältlich oder können kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Designanforderungen zu erfüllen.

F: Wie hoch ist der Reinheitsgrad des Kupfer-Kobalt-Sputtertargets?
A: Das Produkt wird so hergestellt, dass ein Mindestreinheitsgrad von ≥99% erreicht wird, was eine hervorragende Leistung bei Sputtering-Prozessen gewährleistet.

F: Wie kann ich genauere Spezifikationen erhalten oder eine Bestellung aufgeben?
A: Wenden Sie sich bitte an unser Vertriebsteam, um umfassende Spezifikationen zu erhalten und die auf Ihre Anwendungsbedürfnisse zugeschnittenen Größenanforderungen zu besprechen.