Eingestellt (Eingestellt) ST0075 Chrom-Titan (Cr/Ti) Sputtering Target

Chrom-Titan (Cr/Ti) Sputtering Target Beschreibung

Das Chrom-Titan (Cr/Ti) Sputtering Target wurde sorgfältig entwickelt, um hochpräzise Sputtering-Beschichtungsprozesse zu unterstützen. Mit einer Zusammensetzung aus Cr/Ti und einer Reinheit von ≥99% ist es auf Anwendungen zugeschnitten, die gleichbleibende Leistung und Zuverlässigkeit erfordern. Das Target ist in genau definierten Scheibenformen erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifischen Fertigungsanforderungen gerecht zu werden. Seine robuste Formulierung gewährleistet einen stabilen und gleichmäßigen Materialtransfer während des Sputterprozesses und macht es zu einem unverzichtbaren Element in industriellen High-End-Anwendungen.

Chrom-Titan (Cr/Ti) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ermöglicht die Herstellung gleichmäßiger Schichten, die für Halbleiterbauelemente und optische Beschichtungen unerlässlich sind.
- Oberflächenbeschichtungen: Hochwertige Beschichtungen für Verschleißfestigkeit und Korrosionsschutz in Industrieanlagen.
- Elektronische Anwendungen: Wird bei der Herstellung elektronischer Komponenten eingesetzt, bei denen Präzision und Leistung entscheidend sind.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten, die zuverlässige Sputtertargets für Materialinnovationen benötigen.

Chrom-Titan (Cr/Ti) Sputtertarget-Packung

Unser Chrom-Titan (Cr/Ti) Sputtering Target wird sicher verpackt, um seine Qualität und Unversehrtheit während des Transports zu gewährleisten. Zu den Standardverpackungslösungen gehören vakuumversiegelte Beutel und maßgeschneiderte Behälter, die auf die spezifischen Kundenanforderungen zugeschnitten sind und den Schutz des Produkts und eine sichere Lieferung gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtertarget ist ein festes Material, das zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate durch ein physikalisches Aufdampfverfahren verwendet wird.

F: In welchen Branchen werden Sputtertargets hauptsächlich verwendet?
A: Sputtertargets werden häufig in der Halbleiterherstellung, für optische Beschichtungen und verschiedene elektronische Anwendungen eingesetzt.

F: Können die Größen der Sputtertargets individuell angepasst werden?
A: Ja, die verfügbaren Größen können an die spezifischen Anforderungen der verschiedenen Anwendungen angepasst werden.

F: Was bedeutet ein Reinheitsgrad von ≥99% für dieses Produkt?
A: Ein Reinheitsgrad von ≥99% stellt sicher, dass das Target nur minimale Verunreinigungen enthält, was für eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Schichtabscheidung entscheidend ist.

F: Welche Arten von Bindungen werden in diesem Produkt verwendet?
A: Das Produkt sieht die Verwendung von Indium- und Elastomerbindungen vor, die eine zuverlässige Haftung und Leistung während des Sputterprozesses bieten.