Chrom-Kobalt (Cr/Co) Sputtering Target Beschreibung
Das Chrom-Kobalt (Cr/Co) Sputtering Target wurde speziell für fortschrittliche Oberflächenbeschichtungen und Anwendungen für elektronische Komponenten entwickelt. Hergestellt mit einer hohen Reinheit von ≥99%, gewährleistet dieses Target zuverlässige Leistung und Konsistenz in anspruchsvollen Sputtering-Prozessen. Durch die Verfügbarkeit kundenspezifischer Scheibenformen bietet es Vielseitigkeit für unterschiedliche industrielle Anforderungen bei gleichzeitiger Beibehaltung der robusten Qualität, die für Stanford Advanced Materials steht.
Chrom-Kobalt (Cr/Co) Sputtering Target Anwendungen
- Halbleiterherstellung: Ideal für die Herstellung von dünnen Filmen und leitenden Schichten in mikroelektronischen Geräten.
- Oberflächenbeschichtungen: Geeignet für hochwertige, gleichmäßige Beschichtungen in industriellen Anwendungen.
- Elektronik: Einsatz bei der Herstellung von Komponenten, die Präzisions-Sputterverfahren erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für Versuchsaufbauten und Prototyping fortschrittlicher Materialanwendungen.
Chrom-Kobalt (Cr/Co) Sputtering Target Packing
Unsere Chrom-Kobalt (Cr/Co)-Sputter-Targets werden kundenspezifisch hergestellt, um spezifische Projektanforderungen zu erfüllen. Sie werden sicher verpackt, um den Herausforderungen des Transports standzuhalten und sicherzustellen, dass das Produkt in einwandfreiem Zustand ankommt. Die Standardverpackung umfasst in der Regel einzeln versiegelte Scheiben oder Einheiten in Sondergröße, wie vom Kunden gewünscht.
Häufig gestellte Fragen
F: Wie ist die Zusammensetzung des Chrom-Kobalt (Cr/Co) Sputtering Targets?
A: Es besteht aus einer Chrom- und Kobaltlegierung mit einer Reinheit von ≥99%.
F: Für welche Anwendungen kann dieses Sputtering-Target verwendet werden?
A: Dieses Target ist ideal für die Halbleiterherstellung, Oberflächenbeschichtungen, Elektronik und Forschungsanwendungen.
F: Wie sind die Formen der Sputtertargets beschaffen?
A: Das Produkt ist in Form von Standardscheiben erhältlich, kann aber auch nach Kundenwünschen angefertigt werden.
F: Was bedeutet ein Reinheitsgrad von ≥99% für dieses Produkt?
A: Ein Reinheitsgrad von ≥99% gewährleistet minimale Verunreinigungen, was für eine gleichbleibende Sputterleistung bei Präzisionsanwendungen entscheidend ist.
F: Wie kann ich das Chrom-Kobalt (Cr/Co) Sputtering Target in einer kundenspezifischen Größe bestellen?
A: Bitte kontaktieren Sie unser Vertriebsteam mit Ihren Spezifikationen, und wir werden mit Ihnen zusammenarbeiten, um das Target in der gewünschten Größe zu liefern.
