Cerium Samarium (Ce/Sm) Sputtering Target Beschreibung
Das Cerium-Samarium (Ce/Sm) Sputtering Target wurde speziell für präzise Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt, die in modernen industriellen und technologischen Anwendungen eingesetzt werden. Dieses Target wird mit einem hohen Reinheitsgrad (≥99%) hergestellt und gewährleistet eine gleichbleibende Leistung während des Sputtering-Prozesses. Seine anpassbaren Formfaktoren, darunter Standardscheiben oder andere maßgeschneiderte Formen, machen es zur idealen Wahl für Spezialanwendungen in der Halbleiterherstellung, optischen Beschichtungen und Mikroelektronik. Die Einbindung von Ce- und Sm-Elementen sorgt für einzigartige Materialeigenschaften, die einen gleichmäßigen Abtrag und stabile Abscheidungsraten auch unter strengen Verarbeitungsbedingungen ermöglichen.
Cerium-Samarium (Ce/Sm) Sputtering Target Anwendungen
- Dünnschichtabscheidung: Unverzichtbar für Beschichtungsprozesse bei der Herstellung von Halbleitern und Mikroelektronik.
- Optische Beschichtungen: Hochwertige Schichten für Linsen, Spiegel und andere optische Komponenten.
- Mikrofabrikation: Wird in fortschrittlichen Prozessen eingesetzt, die eine präzise Materialabscheidung für kleine Komponenten erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Ideal für Versuchsaufbauten in Labors für Materialwissenschaften und angewandte Physik.
Cerium-Samarium (Ce/Sm) Sputtertarget-Packung
Jedes Cerium-Samarium (Ce/Sm) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um die Unversehrtheit des Produkts während Transport und Lagerung zu gewährleisten. Kundenspezifische Verpackungslösungen sind verfügbar, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen. Dazu gehören in der Regel eine Schutzhülle und ein sicherer Behälter, um Verunreinigungen und physische Schäden zu vermeiden.
Häufig gestellte Fragen
F: Was sind die Hauptanwendungen des Cerium-Samarium (Ce/Sm) Sputtering Targets?
A: Es wird in erster Linie für die Abscheidung von Dünnschichten für die Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen, Mikrofabrikation und F&E-Anwendungen verwendet, wo eine präzise Materialabscheidung erforderlich ist.
F: Wie wird die Reinheit des Targetmaterials sichergestellt?
A: Das Target wird mit einem Reinheitsgrad von ≥99 % hergestellt und unterliegt strengen Qualitätskontrollverfahren, um eine gleichbleibende und hervorragende Leistung zu gewährleisten.
F: Kann das Target an bestimmte Formen angepasst werden?
A: Ja, das Cerium-Samarium (Ce/Sm)-Sputter-Target ist als Standardscheibe erhältlich oder kann auf der Grundlage Ihrer speziellen Anwendungsanforderungen kundenspezifisch angefertigt werden.
F: Welche Vorteile bieten Ce und Sm bei Sputtering-Anwendungen?
A: Ce und Sm bieten einzigartige Materialeigenschaften, die eine gleichmäßige Sputtererosion und stabile Abscheidungsraten fördern, was zu einer qualitativ hochwertigen Dünnschichtbildung selbst unter anspruchsvollen Verarbeitungsbedingungen führt.
F: Gibt es technische Unterstützung für die Integration in spezielle Sputtersysteme?
A: Ja, unser technisches Team bei Stanford Advanced Materials steht Ihnen zur Verfügung, um Sie bei der Integration des Cerium-Samarium (Ce/Sm) Sputtertargets in Ihr Sputtersystem fachkundig zu beraten und zu unterstützen.
