ST0060 Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtering Target

Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtering Target Beschreibung

Das Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtering Target wird mit dem Schwerpunkt auf hoher Reinheit und Präzision hergestellt. Durch den Einsatz fortschrittlicher Produktionstechniken gewährleistet dieses Target eine gleichbleibende Leistung und eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit bei Sputterprozessen. Seine anpassbaren Formen und robusten Materialeigenschaften machen es zu einer bevorzugten Wahl für Branchen wie die Halbleiterherstellung, die Displaytechnologie und die Mikroelektronik. Die einzigartige Al/Cr-Zusammensetzung sorgt für verbesserte Haftung und Stabilität unter anspruchsvollen Betriebsbedingungen und gewährleistet eine zuverlässige Leistung sowohl in der Forschung als auch im industriellen Umfeld.

Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Erzeugung gleichmäßiger Schichten in Halbleiter- und optischen Anwendungen.
- Halbleiterherstellung: Zuverlässiges Targetmaterial für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen.
- Herstellung von Anzeigetafeln: Verbessert die Leistung von Beschichtungen, die in modernen Display-Technologien verwendet werden.
- Mikroelektronische Geräte: Unterstützt die Herstellung von Komponenten, die eine präzise Schichtkontrolle erfordern.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Versuchsaufbauten, die hochreine Sputtertargets benötigen.

Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtertarget-Packung

Unsere Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtertargets werden sorgfältig verpackt, um ihre Qualität und Integrität zu erhalten. Die Verpackungsoptionen werden auf der Grundlage der Kundenanforderungen angepasst, um einen sicheren Transport und optimale Lagerbedingungen zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Welche Vorteile bietet das Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtering Target?
A: Es bietet eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit, eine verbesserte Haftung und eine stabile Leistung, wodurch es sich ideal für Hightech-Dünnschichtabscheidungen und Halbleiteranwendungen eignet.

F: Wie wähle ich die richtige Form für meine Anwendung?
A: Das Target ist in Form von Scheiben erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Designanforderungen zu erfüllen. Eine Beratung durch unser technisches Supportteam kann Ihnen helfen, die beste Option für Ihre Anforderungen zu finden.

F: Welche Branchen können von der Verwendung dieses Sputtertargets profitieren?
A: Es wird häufig in der Halbleiterherstellung, der Produktion von Anzeigetafeln, der Mikroelektronik und verschiedenen Forschungs- und Entwicklungsanwendungen eingesetzt.

F: Gibt es bestimmte Lagerungsanforderungen für das Sputtering-Target?
A: Es wird empfohlen, das Target in einer kontrollierten Umgebung zu lagern, die frei von Verunreinigungen und Feuchtigkeit ist, um seine hohe Reinheit und Leistungsfähigkeit zu erhalten.

F: Kann ich eine kundenspezifische Größe oder Form für das Target anfordern?
A: Ja, das Aluminium-Chrom (Al/Cr) Sputtertarget ist in kundenspezifischen Größen und Formen erhältlich, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen.