ST0037 Rhenium (Re) Sputtering Target

Rhenium (Re) Sputtering Target Beschreibung

Das Rhenium (Re) Sputtering Target wurde mit einer überragenden Materialqualität für modernste Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt. Hergestellt unter strenger Qualitätskontrolle, gewährleistet dieses Target eine gleichbleibende Leistung in Vakuumabscheidungssystemen mit der für Hochtemperaturoperationen erforderlichen Haltbarkeit. Sein hoher Schmelzpunkt und seine kontrollierte Dichte machen es zu einer zuverlässigen Wahl für spezielle industrielle Anwendungen.

Rhenium (Re) Sputtering Target Anwendungen

- Vakuum-Beschichtung: Ideal für die Abscheidung dünner Schichten in Elektronik- und Halbleitergeräten.
- Oberflächentechnik: Verbessert Oberflächeneigenschaften wie Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsschutz.
- Forschung und Entwicklung: Geeignet für Experimente in der fortgeschrittenen Materialwissenschaft und für die Bildung dünner Schichten.
- Mikroelektronik: Für die Herstellung feiner Strukturen und fortschrittlicher Schaltkreise.
- Spezialisierte industrielle Prozesse: Bietet Stabilität und Leistung unter anspruchsvollen Sputtering-Bedingungen.

Rhenium (Re) Sputtering Target Packing

Unser Rhenium (Re) Sputtering Target wird sorgfältig verpackt, um seine Unversehrtheit während des Transports und der Lagerung zu gewährleisten.
Verpackungs-Optionen: Die vakuumversiegelte Verpackung ist in Standardgrößen oder nach Kundenwunsch erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist die Hauptanwendung eines Rhenium Sputtering Targets?
A: Es wird in Sputtering-Prozessen für die Abscheidung dünner Schichten in der Elektronik, in Halbleitergeräten und in der Oberflächentechnik verwendet.

F: Wie wird der Reinheitsgrad von ≥99% aufrechterhalten?
A: Das Rhenium-Target wird unter strengen Qualitätskontrollmaßnahmen hergestellt, um die für eine optimale Leistung erforderliche hohe Reinheit zu gewährleisten.

F: Sind kundenspezifische Formen für das Rhenium-Sputter-Target erhältlich?
A: Ja, das Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann kundenspezifisch angefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: Welche Vorteile bietet der hohe Schmelzpunkt?
A: Mit einem Schmelzpunkt von 3180℃ ist das Target für Hochtemperatur-Sputterprozesse geeignet und gewährleistet Stabilität und Haltbarkeit unter extremen Bedingungen.

F: In welchen Branchen wird das Rhenium-Sputtering-Target üblicherweise verwendet?
A: Es wird häufig in der fortschrittlichen Elektronik, der Halbleiterherstellung, der Vakuumbeschichtung und verschiedenen spezialisierten Industrieprozessen eingesetzt.