Praseodym (Pr) Sputtering Target Beschreibung
Praseodym (Pr) Sputtering Target ist ein hochwertiges Material, das mit einer Zusammensetzung aus hochreinem Pr (≥99%) hergestellt wird und in präzisionsgefertigten Scheiben oder maßgeschneiderten Formen erhältlich ist. Mit einem Schmelzpunkt von 931℃ und einer Dichte von 6,73 g/cm³ ist es für Gleichstrom-Sputterprozesse optimiert und gewährleistet eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit und -haftung. Dieses Sputtertarget eignet sich besonders für fortschrittliche Abscheidetechniken in Halbleiter-, Display- und optischen Anwendungen, bei denen hohe Leistung und Präzision entscheidend sind.
Praseodym (Pr) Sputtering Target Anwendungen
- Dünnschichtabscheidung: Ideal für die Erzeugung gleichmäßiger Dünnschichten bei der Herstellung von Halbleitern und elektronischen Geräten.
- Herstellung von Displays: Wird bei der Herstellung von Anzeigetafeln verwendet, die eine präzise Beschichtung und Abscheidung erfordern.
- Optische Beschichtungen: Wird bei optischen Komponenten eingesetzt, um hochwertige reflektierende und antireflektierende Beschichtungen zu erzielen.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für Versuchsaufbauten in der Materialwissenschaft für Sputtering- und Beschichtungstechnologien.
Praseodym (Pr) Sputtering Target Packing
Unser Praseodym (Pr) Sputtering Target wird mit größter Sorgfalt verpackt, um seine Integrität zu erhalten und sicherzustellen, dass es unsere Kunden in optimalem Zustand erreicht.
Die vakuumversiegelte Verpackung ist in kundenspezifischen Größen je nach Kundenanforderungen erhältlich.
Häufig gestellte Fragen
F: Was ist ein Sputtertarget?
A: Ein Sputtering-Target ist ein festes Material, das in physikalischen Aufdampfverfahren zur Herstellung dünner Schichten auf Substraten durch Ionenbeschuss verwendet wird.
F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des Pr-Targets gewährleistet?
A: Die Reinheit wird durch strenge Verarbeitung, Qualitätskontrolle und spezielle Raffinationstechniken während der Produktion gewährleistet.
F: In welchen Branchen werden Praseodym-Sputtertargets üblicherweise verwendet?
A: Zu den üblichen Anwendungen gehören die Halbleiterherstellung, Displaytechnologien, optische Beschichtungen sowie verschiedene Forschungs- und Entwicklungsprojekte.
F: Kann die Form des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, das Praseodym (Pr)-Sputter-Target ist in Standard-Scheibenformen erhältlich oder kann nach Maß gefertigt werden, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen.
F: Welche Abscheidungstechnik wird für dieses Target empfohlen?
A: Das Target ist für das DC-Sputtern optimiert, das in industriellen Dünnschichtabscheidungsverfahren weit verbreitet ist.
