ST0022 Iridium (Ir) Sputtering Target

Iridium (Ir) Sputtering Target Beschreibung

Iridium (Ir) Sputtering Target ist ein hochreines Target, das für fortschrittliche Abscheidungsprozesse entwickelt wurde. Dieses mit Präzision und Beständigkeit entwickelte Produkt bietet hervorragende thermische und physikalische Eigenschaften und ist somit ideal für die Herstellung hochwertiger Dünnschichten, die in der Mikroelektronik, Optik und anderen Präzisionsanwendungen eingesetzt werden. Die anpassbaren Formen und Größen gewährleisten eine perfekte Anpassung an die verschiedenen Anforderungen von Sputtering-Systemen, während die robuste Konstruktion eine außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit garantiert.

Iridium (Ir) Sputtering Target Anwendungen

- Mikroelektronik: Unverzichtbar für die Herstellung von Dünnschichten, die in Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltkreisen verwendet werden.
- Optische Beschichtungen: Ideal für die Herstellung reflektierender Schichten in der Präzisionsoptik.
- Oberflächentechnik: Wird in verschiedenen Beschichtungsprozessen eingesetzt, um die Oberflächeneigenschaften von Industriekomponenten zu verbessern.
- Forschung und Entwicklung: Bietet hochreines Abscheidungsmaterial für fortgeschrittene materialwissenschaftliche Studien.

Iridium (Ir) Sputtering Target-Verpackung

Unser Iridium-Sputtering-Target wird unter strengen Qualitätskontrollmaßnahmen hergestellt und verpackt. Es wird je nach Bedarf in Scheiben oder anderen maßgeschneiderten Formen hergestellt und sorgfältig in einer Schutzverpackung versiegelt, um seine hohe Reinheit und Leistung während der Lagerung und des Transports zu erhalten.

Häufig gestellte Fragen

F: Was ist ein Sputtertarget und wie wird es verwendet?
A: Ein Sputtertarget ist ein festes Material, das in PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) verwendet wird, um dünne Schichten auf Substrate aufzubringen, indem Atome aus dem Targetmaterial gesputtert werden.

F: Welches Sputtering-System ist mit diesem Produkt kompatibel?
A: Dieses Target ist in erster Linie für Gleichstrom-Sputtersysteme konzipiert, die eine stabile und gleichmäßige Abscheidung von Dünnschichten gewährleisten.

F: Kann das Iridium (Ir) Sputtering Target kundenspezifisch angepasst werden?
A: Ja, es ist in verschiedenen Formen und Größen erhältlich, um spezifische Fertigungsanforderungen zu erfüllen, einschließlich kundenspezifischer Formen nach Bedarf.

F: Welche Branchen profitieren typischerweise von der Verwendung dieses Produkts?
A: Branchen wie die Mikroelektronik, optische Beschichtungen, Oberflächentechnik und Materialforschung profitieren von der hochreinen und stabilen Leistung dieses Sputtertargets.

F: Wie sollte dieses Produkt gelagert und gehandhabt werden?
A: Es sollte unter kontrollierten Bedingungen in der versiegelten Verpackung gelagert werden, um Verunreinigungen zu vermeiden, und vor dem Einbau in die Sputteranlage sorgfältig behandelt werden, um physische Schäden zu vermeiden.