Eingestellt (Eingestellt) ST0019 Hafnium (Hf) Sputtering Target

Hafnium (Hf) Sputtering Target Beschreibung

Das Hafnium (Hf) Sputtering Target wurde für anspruchsvolle Sputtering- und Dünnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt. Das aus hochreinem Hafnium hergestellte Target garantiert eine hervorragende Leistung bei Präzisionsbeschichtungsprozessen und sorgt für eine gleichmäßige Schichtqualität und hervorragende Zuverlässigkeit in rauen Umgebungen. Dieses Target ist ideal für Halbleiter-, Optik- und Luft- und Raumfahrtbeschichtungen und profitiert von der inhärenten Korrosionsbeständigkeit und dem hohen Schmelzpunkt von Hafnium.

Hafnium (Hf) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Perfekt für die Herstellung gleichmäßiger und leistungsstarker Beschichtungen in elektronischen und optischen Geräten.
- Halbleiterherstellung: Unverzichtbar bei der Herstellung von Komponenten, die hohe Präzision und gleichbleibende Materialeigenschaften erfordern.
- Luft- und Raumfahrt & Verteidigung: Für Schutzschichten und funktionelle Beschichtungen, bei denen Haltbarkeit und Hochtemperaturbeständigkeit erforderlich sind.
- Wissenschaftliche Forschung: Ideal für Versuchsaufbauten mit fortschrittlichen Sputtertechniken.

Hafnium (Hf) Sputtering Target Packing

Unsere Hafnium (Hf) Sputtering Targets sind sicher verpackt, um Verunreinigungen und physische Schäden zu vermeiden. Jedes Target ist in der Regel vakuumversiegelt und in eine Schutzverpackung eingeschlossen, um seine Qualität auf dem Weg von unserem Werk zu Ihrem Labor oder Produktionsstandort zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Für welche Sputtering-Methode ist dieses Target geeignet?
A: Es ist speziell für DC-Sputterverfahren konzipiert.

F: Kann das Hafnium (Hf) Sputtering Target kundenspezifisch angefertigt werden?
A: Ja, Kunden können kundenspezifische Formen und Größen anfordern, um ihre spezifischen Anwendungsanforderungen zu erfüllen.

F: In welchen Branchen wird dieses Sputtering-Target üblicherweise verwendet?
A: Es wird häufig in der Halbleiterherstellung, der Elektronik, der Luft- und Raumfahrt sowie in der wissenschaftlichen Forschung eingesetzt.

F: Wie wird das Target hergestellt, um eine hohe Reinheit zu gewährleisten?
A: Das Target wird unter kontrollierten Herstellungsprozessen produziert, die strenge Qualitätsstandards einhalten, um seine ≥99%ige Reinheit zu erhalten.

F: Welche Lagerungsempfehlungen gibt es für dieses Target?
A: Es sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert werden, idealerweise vakuumversiegelt, um Kontaminationen zu vermeiden und eine optimale Leistung zu gewährleisten.