ST0014 Europium (Eu) Sputtering Target

Europium (Eu) Sputtering Target Beschreibung

Das Europium (Eu) Sputtering Target wurde für hochpräzise Sputtering-Anwendungen entwickelt und bietet eine hervorragende Leistung und Konsistenz. Mit einer Reinheit von ≥99% und maßgeschneiderten Formen ist dieses Target optimal für die Dünnschichtabscheidung in der Mikroelektronik, Displaytechnik und anderen kritischen industriellen Prozessen. Seine hervorragenden physikalischen Eigenschaften, darunter ein Schmelzpunkt von 822℃ und eine Dichte von 5,24 g/cm³, gewährleisten einen zuverlässigen Betrieb unter anspruchsvollen Bedingungen.

Europium (Eu) Sputtering Target Anwendungen

- Dünnschichtabscheidung: Unverzichtbar für die Herstellung hochwertiger Beschichtungen in der Mikroelektronik und bei Bildschirmen.
- Optoelektronik: Einsatz bei der Herstellung von lichtemittierenden Bauteilen und Lasern.
- Mikrofabrikation: Ideal für die Herstellung präziser Strukturen in der Halbleiterfertigung.
- Wissenschaftliche Forschung: Wird in Labors für die Entwicklung von Versuchsmaterialien und Beschichtungen verwendet.
- Kundenspezifische industrielle Beschichtungen: Geeignet für verschiedene Anwendungen, die haltbare, leistungsstarke dünne Schichten erfordern.

Europium (Eu) Sputtering Target Packing

Unser Europium (Eu) Sputtering Target wird sicher verpackt, um seine Integrität und Leistung während des Transports und der Lagerung zu erhalten. Zu den Optionen gehören vakuumversiegelte Verpackungen und kundenspezifische Verpackungslösungen auf der Grundlage der Kundenanforderungen.

Häufig gestellte Fragen

F: Was sind die Hauptanwendungen des Europium (Eu) Sputtering Targets?
A: Es wird hauptsächlich für Dünnschichtabscheidungsprozesse in der Mikroelektronik, bei Displays, in der Optoelektronik und bei anderen speziellen Beschichtungsanwendungen eingesetzt.

F: Wie wird die Reinheit des Europium-Sputtertargets sichergestellt?
A: Die Reinheit (≥99%) wird durch strenge Qualitätskontrollmaßnahmen und die Einhaltung der branchenüblichen Herstellungsverfahren gewährleistet.

F: Können die Formen des Sputtertargets angepasst werden?
A: Ja, unser Europium (Eu) Sputtering Target ist in Standard-Scheibenformen oder als maßgeschneiderte Targets für spezifische Anwendungsanforderungen erhältlich.

F: Welches Sputtering-Verfahren wird für dieses Target empfohlen?
A: Das Target ist für das DC-Sputtern ausgelegt und bietet einen stabilen und effizienten Abscheidungsprozess.

F: Wie sollte das Europium-Sputtertarget gelagert und transportiert werden?
A: Es sollte sorgfältig behandelt werden, idealerweise in einer vakuumversiegelten oder schützenden Verpackung, um Verunreinigungen zu vermeiden und seine hohe Reinheit und Leistungsfähigkeit zu erhalten.